简介：上海伯东代理美国进口KRi射频离子源RFICP220高能量栅极离子源,适用于离子溅镀,离子沉积和离子蚀刻.在离子束溅射工艺中,射频离子源RFICP220配有离子光学元件,可以很好的控制离子束去溅射...

简介：上海伯东美国KRi大口径射频离子源RFICP380,3层栅极设计,栅极口径38cm,提供离子动能100-1200eV宽束离子束,zui大离子束流1000mA,满足300mm(12英寸)晶圆应用.广...

简介：美国KRI霍尔离子源eH系列紧凑设计,高电流低能量宽束型离子源,提供原子等级的细微加工能力,霍尔离子源eH可以以纳米精度来处理薄膜及表面,多种型号满足科研及工业,半导体应用.霍尔离子源高电流提高镀...

简介：美国KRI考夫曼公司新升级GriddedKDC系列离子源,新的特性包含自对准离子光学和开关式电源控制.考夫曼离子源KDC系列包含多种不同尺寸的离子源满足各类应用.考夫曼离子源KDC提供一套完整的方...

简介：上海伯东美国KRi射频离子源RFICP系列,无需灯丝提供高能量,低浓度的离子束,通过栅极控制离子束的能量和方向,单次工艺时间更长!射频源RFICP系列提供完整的系列,包含离子源本体,电子供应器,中...

简介：上海伯东美国KRI大口径射频离子源RFICP380,3层栅极设计,栅极口径38cm,提供离子动能100-1200eV宽束离子束,套装包含离子源本体和电源控制器.

简介：上海伯东代理美国进口KRI考夫曼离子源KDC160是目前考夫曼KDC系列,离子能量的栅极离子源

简介：KRI考夫曼离子源KDC100上海伯东代理美国进口KRI考夫曼离子源KDC100中型规格栅极离子源,广泛加装在薄膜沉积大批量生产设备中,考夫曼离子源KDC100采用双阴极灯丝和自对准栅极,标准配置...

简介：上海伯东代理美国进口KRI霍尔离子源eH200是霍尔离子源型eH系列中尺寸最小,低成本设计离子源.霍尔离子源eH200适用于小型真空腔内,例如研发分析,薄膜沉积和离子清洗.霍尔离子源eH200操作...

简介：KRIIonSource应用领域：无栅极等离子源技术----End-Hall离子/等离子源有栅极离子源技术----RFICP离子源