KRI 考夫曼离子源 KDC 100
上海伯东代理美国 进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 100 中型规格栅极离子源, 广泛加装在薄膜沉积大批量生产设备中, 考夫曼离子源 KDC 100 采用双阴极灯丝和自对准栅极, 标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 400 mA.
KRI 考夫曼离子源 KDC 100
上海伯东代理美国 进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 100 中型规格栅极离子源, 广泛加装在薄膜沉积大批量生产设备中, 考夫曼离子源 KDC 100 采用双阴极灯丝和自对准栅极, 标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 400 mA.
KRI 考夫曼离子源 KDC 100 技术参数:
型号
KDC 100
供电
DC magnetic confinement
- 阴极灯丝
2
- 阳极电压
0-100V DC
电子束
OptiBeam™
- 栅极
专用, 自对准
-栅极直径
12 cm
中和器
灯丝
电源控制
KSC 1212
配置
-
- 阴极中和器
Filament, Sidewinder Filament 或LFN 2000
- 安装
移动或快速法兰
- 高度
9.25'
- 直径
7.6'
- 离子束
聚焦
平行
散设
-加工材料
金属
电介质
半导体
-工艺气体
惰性
活性
混合
-安装距离
8-36”
- 自动控制
控制4种气体
* 可选: 可调角度的支架
KRI 考夫曼离子源 KDC 100 应用领域:
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE
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