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简介:上海伯东美国KRI考夫曼离子源提供多个类型的低能量高密度的电子源,从简单的热电子灯丝模式到中空阴极模式,典型应用在等离子和离子工艺中的阴极和阳极中和器,通过技术完成电子的发射,测量和束流控制,广泛...
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简介:伯东公司是美国考夫曼公司Kuafman&Robinson,Inc(KRI)中国总代理.KRI考夫曼公司是由离子源发明人Dr.Kaufman考夫曼博士于1978年在美国创立.KRI考夫曼离子源历经3...
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简介:上海伯东代理美国进口KRI射频离子源RFICP220高能量栅极离子源,适用于离子溅镀,离子沉积和离子蚀刻.在离子束溅射工艺中,射频离子源RFICP220配有离子光学元件,可以很好的控制离子束去溅射...
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简介:上海伯东代理美国进口KRI射频离子源RFICP140是一款紧凑的有栅极离子源,非常适用于离子束溅射沉积,离子辅助沉积和离子束刻蚀.在离子束溅射工艺中,射频离子源RFICP140配有离子光学元件,可...
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简介:尺寸:直径=9.7“高=6”放电电压/电流:50-300V/20A操作气体:Ar,Xe,Kr,O2,N2,有机前体
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简介:在离子刻蚀工艺中,离子源与离子光学配合,蚀刻更均匀.标准配置下RFICP100离子能量范围100至1200ev,离子电流可以达到400mA.
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简介:上海伯东代理美国进口KRI射频离子源RFICP40:目前KRI射频离子源RFICP系列尺寸最小,低成本高效离子源.适用于集成在小型的真空腔体内.离子源RFICP40设计采用创新的栅极技术用于研发和...
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简介:尺寸:直径=5.7“高=5.5”放电电压/电流:50-300V/10A或15A操作气体:Ar,Xe,Kr,O2,N2,有机前体
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简介:尺寸:直径=5.7“高=5.5”放电电压/电流:50-300V/10A操作气体:Ar,Xe,Kr,O2,N2,有机前体
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简介:上海伯东代理美国进口KRI考夫曼离子源KDC40:小型低成本直流栅极离子源.KDC40是3cm考夫曼型离子源升级款.具有更大的栅极,更坚固,可以配置自对准第三层栅极.离子源KDC40适用于所有的离...
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