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¥5400000
简介:上海伯东代理美国进口KRI霍尔离子源eH2000是一款更强大的版本,带有水冷方式,他具备eH1000所有的性能,低成本设计提供高离子电流,特别适合大中型真空系统.通常应用于离子辅助镀膜,预清洗和低...
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¥3600000
简介:上海伯东代理美国进口KRI霍尔离子源eH400低成本设计提供高离子电流,霍尔离子源eH400尺寸和离子能量特别适合中小型的真空系统,可以控制较低的离子能量,通常应用于离子辅助镀膜,预清洗和低能量离...
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¥4800000
简介:上海伯东代理美国进口KRI考夫曼离子源KDC40:小型低成本直流栅极离子源.KDC40是3cm考夫曼型离子源升级款.具有更大的栅极,更坚固,可以配置自对准第三层栅极.离子源KDC40适用于所有的离...
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¥4200000
简介:上海伯东代理美国进口KRI考夫曼离子源KDC10:考夫曼型离子源Gridded系列最小型号的离子源.适用于集成在小型的真空设备中,例如预清洗,离子溅射,离子蚀刻.在1000eV低能量,通Ar氩气时...
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¥6000000
简介:上海伯东代理美国进口KRI考夫曼离子源KDC75:紧凑栅极离子源,离子束直径14cm,可安装在8“CF法兰.适用于中小型腔内,考夫曼离子源KDC75包含2个阴极灯丝,其中一个作为备用,KDC75提...
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¥13200000
简介:上海伯东代理美国进口KRI射频离子源RFICP140是一款紧凑的有栅极离子源,非常适用于离子束溅射沉积,离子辅助沉积和离子束刻蚀.在离子束溅射工艺中,射频离子源RFICP140配有离子光学元件,可...
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¥12120000
简介:上海伯东代理美国进口KRi射频离子源RFICP220高能量栅极离子源,适用于离子溅镀,离子沉积和离子蚀刻.在离子束溅射工艺中,射频离子源RFICP220配有离子光学元件,可以很好的控制离子束去溅射...
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¥19200000
简介:上海伯东美国KRi大口径射频离子源RFICP380,3层栅极设计,栅极口径38cm,提供离子动能100-1200eV宽束离子束,zui大离子束流1000mA,满足300mm(12英寸)晶圆应用.广...
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¥3600000
简介:美国KRI霍尔离子源eH系列紧凑设计,高电流低能量宽束型离子源,提供原子等级的细微加工能力,霍尔离子源eH可以以纳米精度来处理薄膜及表面,多种型号满足科研及工业,半导体应用.霍尔离子源高电流提高镀...
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¥4200000
简介:美国KRI考夫曼公司新升级GriddedKDC系列离子源,新的特性包含自对准离子光学和开关式电源控制.考夫曼离子源KDC系列包含多种不同尺寸的离子源满足各类应用.考夫曼离子源KDC提供一套完整的方...
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