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上海伯东代理进口KRI射频离子源 RFICP 140
| 参考价 | ¥ 1320000 |
| 订货量 | ≥1件 |
具体成交价以合同协议为准
- 公司名称 伯东企业（上海）有限公司
- 品牌
- 型号
- 所在地 上海市
- 厂商性质 经销商
- 更新时间 2023/1/4 15:25:24
- 访问次数 151
| 参考价 | ¥ 1320000 |
| 订货量 | ≥1件 |
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上海伯东代理美国进口 KRI 射频离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源, 非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀. 在离子束溅射工艺中，射频离子源 RFICP 140 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现更佳的薄膜特性
KRI 射频离子源 RFICP 140
上海伯东代理美国进口 KRI 射频离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源, 非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀. 在离子束溅射工艺中，射频离子源 RFICP 140 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现更佳的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 就标准的型号而言, 可以在离子能量为 100~1200 eV 范围内获得很高的离子密度. 可以输出ZUI大 600 mA 离子流.
KRI 射频离子源 RFICP 140 技术参数:
阳极 | 电感耦合等离子体 |
zui大阳极功率 | 1kW |
zui大离子束流 | > 500mA |
电压范围 | 100-1200V |
离子束动能 | 100-1200eV |
气体 | Ar, O2, N2,其他 |
流量 | 5-40sccm |
压力 | < 0.5mTorr |
离子光学, 自对准 | OptiBeamTM |
离子束栅极 | 14cm Φ |
栅极材质 | 钼, 石墨 |
离子束流形状 | 平行,聚焦,散射 |
中和器 | LFN 2000 |
高度 | 25.1 cm |
直径 | 24.6 cm |
锁紧安装法兰 | 12”CF |
KRI 射频离子源 RFICP 140 应用领域：
预清洗
表面改性
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,
溅镀和蒸发镀膜 PC
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专li. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请参考以下联络方式
上海伯东: 罗先生
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