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上海伯东代理美国 KRI 霍尔离子源 eH200
| 参考价 | ￥300000-￥600000 |
具体成交价以合同协议为准
- 公司名称 伯东企业（上海）有限公司
- 品牌
- 型号
- 所在地 上海市
- 厂商性质 经销商
- 更新时间 2023/1/5 14:43:17
- 访问次数 537
| 参考价 | ￥300000-￥600000 |
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上海伯东代理美国进口 KRI 霍尔离子源 eH200 是霍尔离子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本设计离子源. 霍尔离子源 eH200 适用于小型真空腔内, 例如研发分析, 薄膜沉积和离子清洗. 霍尔离子源 eH200 操作简单是理想的生产工具.
KRI 霍尔离子源 eH 200
上海伯东代理美国进口 KRI 霍尔离子源 eH200 是霍尔离子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本设计离子源. 霍尔离子源 eH200 适用于小型真空腔内, 例如研发分析, 薄膜沉积和离子清洗. 霍尔离子源 eH200 操作简单是理想的生产工具.
KRI 霍尔离子源 eH 200 技术参数：
型号 | eH 200 |
供电 | DC magnetic confinement |
- 电压 | 40-300V VDC |
- 离子源直径 | ~ 2 cm |
- 阳极结构 | 模块化 |
电源控制 | eHx-3005A |
配置 | - |
- 阴极中和器 | Filament or Hollow Cathode |
- 离子束发散角度 | > 45° (hwhm) |
- 阳极 | 标准或 Grooved |
- 水冷 | 无 |
- 底座 | 移动或快接法兰 |
- 高度 | 2.0' |
- 直径 | 2.5' |
-加工材料 | 金属 |
-工艺气体 | Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors |
- 安装距离 | 6-24” |
- 自动控制 | 控制4种气体 |
* 可选: 可调角度的支架; Filamentless; Sidewinder
KRI 霍尔离子源 eH 200 应用领域：
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
直接沉积 DD
若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请参考以下联络方式
上海伯东: 罗先生
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