PICOSUN™P-1200

PICOSUN™P-1200 PICOSUN™ P-1200原子层沉积系统专门对批量的大尺寸平面基底进行低温薄膜沉积， 应用于有机光电和显示器等领域。

PICOSUN™ P-1200 ALD系统专门对批量的大  尺寸平面基底进行低温薄膜沉积， 应用于有机光电、显示器和OLED等领域。主要的应用包括制备各种各样的钝化层和阻挡层， 显著提高器件的性能和寿命。巧妙、创新的设计使 得PICOSUN™ P-1200 ALD系统在具有制备高  均一性的高质量ALD薄膜的同时能够有很高  的产量， 并且是市场上保养、维护时间， 购置成本最小的ALD系统。这些都已经在实际 生产中得到证实。

可靠、快速且易于维护的PICOSUN™ P-1000 ALD系统代表了的工业化ALD工艺水平！

衬底尺寸和类型

•    400x 500 mm(厚度~1mm) 28片/批次 (10mm片间距）

•    370x 470 mm(厚度~1mm) 28片/批次 (10mm片间距）

•    柔性衬底的卧式批量加工

工艺温度和产率

•    50 – 120°C

•    产量达到168片/24h (100nm Al2O3)

标准工艺

•    低温沉积Al2O3等薄膜材料

基片装载

•    半自动装卸

•    预真空室配备温度控制器（25 - 80 °C），以达 到产量和水分污染

前驱体

•    液态、固态、气态、臭氧源

•    源瓶余量传感器，提供清洗和装源服务

•     7根独立源管线， 最多加载10个前驱体源