椭圆计（膜厚测定多层膜解析光弾性测定）　M-series

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公司名称 沈阳佳士科商贸有限公司
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更新时间 2021/3/2 20:04:29
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2020年01月08日至 2020年02月08日

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模内浇口分离自动化，降低对人的依赖度；传统的塑胶模具开模后产品与浇口相连，需二道工序进行人工剪切分离，模内热切模具将浇口分离提前至开模前，消除后续工序，有利于生产自动化，降低对人的依赖。

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椭圆率计 （测量膜厚 多层膜解析 测量光弹性）　M-series

▼概要
日日本分光制的椭圆计配有日本分光产的PEM双重锁定方式和光伺服・光参考方式，实现高速性和高安定性。由于偏光素子的轴配置适合特别薄的膜和微小的偏光测量，所以主要用于向高集积化和高精细化发展的半导体及高机能光学薄膜等材料的评价。
◆规格
▼M-210/220/230/240/550/ELC-300

型号	M-210	M-220	M-230	M-240	M-550	ELC-300
测量方法	PEM双重锁定方式、光伺服/光参照控制方式
分光器	-	双单色器自动波长驱动装置		双单色器（260～900nm）单单色器（900～1700nm）自动波长驱动装置	单单色器自动波长驱动装置	双单色器自动波长驱动装置
测量波长	He-Ne激光 (632.8nm)	He-Ne激光(632.8nm) Xe光源 (260～860nm)	He-Ne激光 (632.8nm) Xe光源 (240～700nm)	He-Ne激光 (632.8nm) Xe光源 (26～900nm) 卤素灯 (900～1700nm)	Xe光源 (350～800nm)	He-Ne激光 (632.8nm) Xe光源 (260～860nm)
入射角范围	40゜～ 90゜连续自动设定（0.01゜间隔）				45゜～ 90゜连续自动设定（0.01゜间隔）	40゜～ 90゜连续自动设定（0.01゜间隔）
膜厚测量范围	0～99999Å
测量时间	1msec以上					20μsec～16sec
测量准确度^*	屈折率　±0.01
	膜厚　±1Å
	消衰係数　±0.01
	*准确度是指测量时间100msec以上。另外、根据表面状态、膜质不同准确度也不同。
样品室	样品垂直放				样品水平放	样品垂直放
检测器	检光子（Glan-Taylor棱镜）紫外可见区域：光电子倍増管　近红外区域：InGaAs-PIN光电二极管（M-240）

▼软件

主机标准

1.时间变化测量
2.膜厚测量
3.Δ-Ψ模拟
4.光谱测量・解析^*1
5.诱电率计算^*1
6.反射率计算^*1
*1 M-210型号不是分光型不可使用

选项程序

1. 映射测量（自动X-θ带映射台）
2.多层膜解析^*2
3.多入射角测量
4.灵敏度模拟^*2
5.波长Cauchy光谱^*3
6.椭圆率测量・解析、测量波长固定复屈折（带异方性解析台）^*3
7.测量3次元屈折率（需要异方性解析台）^*3
8.测量光弾性定数（带光弾性测量用透过台）^*3
*2 M-210不是分光型的不能使用
*3 M-550不能测量透过不能使用。

◆规格
▼M-210/220/230/240/550/ELC-300

型号	M-210	M-220	M-230	M-240	M-550	ELC-300
测量方法	PEM双重锁定方式、光伺服/光参照控制方式
分光器	-	双单色器自动波长驱动装置		双单色器（260～900nm）单单色器（900～1700nm）自动波长驱动装置	单单色器自动波长驱动装置	双单色器自动波长驱动装置
测量波长	He-Ne激光 (632.8nm)	He-Ne激光 (632.8nm) Xe光源 (260～860nm)	He-Ne激光 (632.8nm) Xe光源 (240～700nm)	He-Ne激光 (632.8nm) Xe光源 (26～900nm) 卤素灯 (900～1700nm)	Xe光源 (350～800nm)	He-Ne激光 (632.8nm) Xe光源 (260～860nm)
入射　角范围	40゜～ 90゜连续自动设定（0.01゜间隔）				45゜～ 90゜连续自动设定（0.01゜间隔）	40゜～ 90゜连续自动设定（0.01゜间隔）
膜厚测量范围	0～99999Å
测量时间	1msec以上					20μsec～16sec
测量准确度^*	屈折率　±0.01
	膜厚　±1Å
	消衰係数　±0.01
	准确度是指测量时间100msec以上。另外、根据表面状态、膜质不同准确度也不同*。
样品室	样品垂直放				样品水平放	样品垂直放
检测器	检光子（Glan-Taylor棱镜）紫外可见区域：光电子倍増管　近红外区域：InGaAs-PIN光电二极管（M-240）