简介：高真空退火炉可实现，高反射率的拋物面与高质量的加热源相配置仪器，在高速加热高速冷却时，具有良好的温度分布。可实现宽域均热区，高速加热、高速冷却，用石英管保护加热式样，无气氛污染。可在高真空，高出纯...

简介：真空快速退火炉AS-One是一种通用的RTP系统，可用于开发快速热退火和快速热CVD工艺。

简介：RTP-3-04系列自立式4吋真空快速退火炉采用红外辐射加热技术，可实现大尺寸样品(4英寸)快速升温和降温，可用于快速热处理(RTP)、快速热退火(RTA)、快速热氧化(RTO)、快速热氮化(RT...

简介：武汉嘉仪通科技有限公司成立于2009年，是一家技术自主创新的国家新技术企业。公司集快速退火炉研发、市场和技术服务于一体的快速退火炉厂家，本公司生产销售的快速退火炉覆盖1-12吋样品测试，分为科研与...

简介：嘉仪通晶化快速退火炉RTP-3-01系列采用红外辐射加热技术，可实现1吋(选配2吋)样品快速升温和降温，同时搭配超高精度温度控制系统，可达到好的温场均匀性，对薄膜材料进行晶化快速退火处理，提高薄膜...

简介：半导体芯片退火设备RTP快速退火炉可应用于集成电路的离子注入退火；集成电路、LED芯片、半导体激光器芯片、射频芯片、MEMS芯片、功率器件、分立器件、第三代半导体等的合金化退火；石墨烯，Au纳米晶...

简介：快速退火炉嘉仪通RTP4吋快速退火炉控温精度准升温速度快半导体退火设备采用红外辐射加热技术，可实现大尺寸样品（4英寸样品）快速升温和降温，同时搭配高精度温度控制系统，可达到比较好的温场均匀性，对材...

简介：

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