SEM（扫描电镜）

场发射扫描电子显微镜-SEM厂家型号：德国蔡司SIGMAHD技术参数：具有高真空和可变压力模式，实现了分析型场发射扫描电镜的高清晰成像，并能够在低加速电压下（750V-3kV）和低探针电流下对样品成像

场发射扫描电子显微镜-SEM

厂家型号：德国蔡司 SIGMA HD

技术参数：

具有高真空和可变压力模式，实现了分析型场发射扫描电镜的高清晰成像，并能够在低加速电压下（750V-3kV）和低探针电流下对样品成像。

1.分辨率：1.3nm (20KV)；

2. 加速电压：0.02-30KV；

3. 探针电流：4Pa-20nA；

4. 放大倍数：10-1000 000X ；

5．检测器：In-lens 、SE、EsB、AsB、STEM检测器；

6．能量谱仪(EDS)：X-MaxN20双探测器系统（英国Oxford公司）。

应用范围

1．金属、陶瓷、高分子、矿物、水泥、半导体、纸张、塑料、食品、生物等材料的显微形貌、晶体结构和相组织的观察和分析；

2．各种材料微区化学分的定性和半定量检测；

3．粉末、微粒纳米样品形态和粒度的测定；

4．复合材料界面特性的研究。

表征项目：

SEM形貌，EDS点扫、线扫 、面扫mapping 。

样品要求：

1.样品形态:试样必须是化学和物理上稳定的固体（块状、 片状、纤维、粉末均可）；

2.样品表面清洁，在高真空和电子束轰击下不挥发、不变形，无放射性、无腐蚀性；

3.样品量：粉末 5mg  ，液体 0.5ml ; 样品尺寸：长宽高≤ 30*30*10mm 。