RTP-3-04 真空快速退火炉

RTP-3-04系列自立式4吋真空快速退火炉采用红外辐射加热技术，可实现大尺寸样品(4英寸)快速升温和降温，可用于快速热处理(RTP)、快速热退火(RTA)、快速热氧化(RTO)、快速热氮化(RTN)及金属合金化等半导体工艺。

武汉嘉仪通科技有限公司成立于2009年，是一家技术自主创新的国家新技术企业。公司集快速退火炉研发、市场和技术服务于一体的真空快速退火炉厂家。

本公司生产销售的真空快速退火炉覆盖1-12吋样品测试，分为科研与产线两种应用场景类型共8款机型。

RTP-3-04系列自立式4吋真空快速退火炉采用红外辐射加热技术，可实现大尺寸样品(4英寸)快速升温和降温，可用于快速热处理(RTP)、快速热退火(RTA)、快速热氧化(RTO)、快速热氮化(RTN)及金属合金化等半导体工艺。

真空快速退火炉产品特点：

快速加热和降温: 可控升温速率可达50 ℃/s，特定条件下可以达到100 ℃/s。冷壁水冷设计能够达到较大的降温速率，特定条件下可达30 ℃/s。

 精确控温: 采用工业级温控器进行PID精确控温，目标温度与设定温度曲线一致性高，可实现室温至1200 ℃的温度精确控制。

 适应多种工艺环境: 满足多种工艺气氛下的热处理（氮气、氩气等）。同时，通过选配真空泵，可以在真空条件下进行退火，真空度可达10^-3Pa。

 配备观察窗口: 通过观察窗口，可以实时观察热处理过程中的样品变化。同时，可以结合相关测试方法进行原位测试分析。

 超高安全系数: 采用炉壁超温报警系统和冷却水流量报警系统，多方位保障仪器使用安全。

真空快速退火炉厂家：拥有自主研发技术和制造能力，能快速反应客户售后需求。

真空快速退火炉技术参数：

真空快速退火炉厂家 服务的客户：

公司的快速退火炉服务于的大学有：清华大学、复旦大学、南京大学、浙江大学等大学；

服务的重要科研院所：中科院微电子所、半导体所、微系统所、绵阳九院等；

服务的半导体企业有：华为海思、三安光电、敏而精密、泽达等等头部半导体企业等等。