适用于1Xnm级开发以及22nm级量产流程的测长SEM CG5000CG5000革新了运送类系统，并通过对电子光学技术及图像处理技术的改良，实现了有史注1）的分辨率，处理能力，测长再现性。并且该系统还强化了自动校准功能，提供了*稳定的运行率。另外，CG5000采用新测长技术及应用，可应用于使用新流程/新材料时所面临的测长课题，也可全面适用于1Xnm级设备的开发。（注1）自1984年日立的FEB测长装置S-6000问世以来，公司内部设备相比较而言
适用于1Xnm级开发以及22nm级量产流程的测长SEM CG5000
CG5000革新了运送类系统，并通过对电子光学技术及图像处理技术的改良，实现了有史注1）的分辨率，处理能力，测长再现性。并且该系统还强化了自动校准功能，提供了*稳定的运行率。
另外，CG5000采用新测长技术及应用，可应用于使用新流程/新材料时所面临的测长课题，也可全面适用于1Xnm级设备的开发。
（注1）自1984年日立的FEB测长装置S-6000问世以来，公司内部设备相比较而言
高生产性
此装置革新了运送机器的结构构成（包括装、卸部件以及平台速度和停止精度的提高），实现AF的高速化，通过可变像素实现测长区域的化，从而缩短MAM时间，与以往相比，提高了约40%的处理能力。
高分辨率
此装置通过改良电子光学技术及图像处理技术（降噪，改善边缘锐度，图像内部暗部强调），改善了Image Sharpness。
*稳定性
基于设计数据的计量系统
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