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∑IGMA 扫描电子显微镜 场发射电子显微镜∑IGMA 德国.蔡司

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详细描述:

 

品牌:卡尔·蔡司

型号:∑IGMA

 

制造商:德国卡尔蔡司公司

 

【品牌故事】

      世界*光学品牌,可见光及电子光学的----德国蔡司公司始创于1846年。其电子光学前身为LEO(里奥),更早叫Cambridge(剑桥),积扫描电镜领域40多年及透射电镜领域60年的经验,ZEISS电子束技术在世界上创造了数个*:

 

  *台静电式透射电镜(1949)

  *台商业化扫描电镜(1965)

  *台数字化扫描电镜(1985)

  *台场发射扫描电镜(1990)

  *台带有成像滤波器的透射电镜(1992)

  *台具有Koehler照明的200kV场发射透射电镜(2003)

  *台具有镜筒内校正Omega能量滤波器的场发射透射电镜(2003)

 

       CARL ZEISS以其前瞻性**的设计融合欧洲*制造工艺造就了该品牌在光电子领域无可撼动的*地位。自成立至今,一直延续不断创新的传统,公司拥有电镜制造zui核心的专有技术,随着离子束技术和基于电子束的分析技术的加入、是*为您提供钨灯丝扫描电镜、场发射扫描电镜、双束显微镜(FIB and SEM)、透射电子显微镜等全系列解决方案的电镜制造企业。其产品的高性能、高质量、高可靠性和稳定性已得到*广大用户的信赖与认可。作为电镜标准*的CARL ZEISS将一路*电镜市场为您开创探求纳米科技的崭新纪元。

 

【总体描述】

      采用*的第三代GEMINI镜筒的∑IGMA场发射电子显微镜在处理所有材料方面有杰出表现。GEMINI镜筒因其操作简单,极低压成像和超稳定探测电流等优势得到广大用户的认可,同时可提供高分辨率的能谱分析和波谱分析.                  

      IGMA可处理直径达250mm和高为145mm的试样,此外,理想的共面设计使得能谱分析(EDS)和背散射电子分析(EBSD)同时使用。

 

【技术参数】

  分辨率:1.3nm@ 20KV   1.5nm@ 15KV     2.8nm@ 1KV  

  放大倍数:121,000,000x  

  加速电压:0.1-30KV  

  探针电流:4 pA - 20 nA (4pA-40nA可选

  样品室:330 mm (φ) x 270 mm (h)  

  样品台:5轴优中心全自动

                   X = 125 mm  

                   Y = 125 mm  

                   Z = 50mm

                   T = 0 - 90°  

                   R = 360°连续旋转  

  系统控制:基于Windows XPSmartSEM操作系统,可选鼠标、键盘、控制面板控制

 

【产品应用】      

      扫描电镜(SEM)广泛地应用于金属材料钢铁、冶金、有色、机械加工和非金属材料化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维等检验和研究。在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域进行材料的微观形貌、组织、成分分析,各种材料的形貌组织观察,材料断口分析和失效分析,材料实时微区成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面扫描和线扫描分布测量,晶体、晶粒的相鉴定,晶粒尺寸、形状分析,晶体、晶粒取向测量。


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