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高解析度FEB测量装置CS4800(CD-SEM)

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适用于对应4、6、8英寸晶圆的测量SEM搭载日技术的CD-SEM CS4800兼容4、6、8英寸晶圆的CD测量,提供高解析度的SEM成像,更高的测量精度和快速自动化操作,将有助于提高客户现有生产线的生产力。此外用户可以通过简单的操作处理自动搬送两种不同尺寸的晶圆。 日立计划支持对应碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)等各种材料的晶圆,以满足客户对半导体电子器件生产的多样化需求。

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高解析度FEB测量装置CS4800(CD-SEM)

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高解析度FEB测量装置CS4800(CD-SEM)

适用于对应4、6、8英寸晶圆的测量SEM

搭载日技术的CD-SEM CS4800兼容4、6、8英寸晶圆的CD测量,提供高解析度的SEM成像,更高的测量精度和快速自动化操作,将有助于提高客户现有生产线的生产力。此外用户可以通过简单的操作处理自动搬送两种不同尺寸的晶圆。 日立计划支持对应碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)等各种材料的晶圆,以满足客户对半导体电子器件生产的多样化需求。

  • 特长

  • 规格

特长

  • 考虑了更换现有设备或共同使用情况下的设备占地面积和GUI*1
  • 通过设备的研发经验,搭载了高精度测量技术和的计量应用。
  • 通过光学轴自动化调整,减少了由于操作员熟练度而造成的测量偏差。
  • 更高的图像处理技术,实现Recipe自动测量并提高产能。
  • 新的晶圆搬送系统兼容4,6,8英寸多尺寸晶圆。
*1
GUI (Graphic User Interface):使用计算机的图形显示器和鼠标等指示设备的软件操作系统。

规格

规格
测量精度1nm(3σ)(采用日立标准晶圆)
晶圆尺寸直径 100mm, 150mm, 200mm
自动装片装置2个
设备尺寸(主体)1180(宽)× 2500(长)× 1990(高)毫米


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