OTF-1200X-S-HPCVD 坩埚（样品台）可移动型1200℃管式炉

高温炉部分

• 炉体设计为开启式，以便于更换炉管
• 工作电源：208 - 240 VAC, 50/60Hz
• zui大功率为：2KW
• zui高工作温度：1200℃（<1hr)
• 连续工作温度：1100℃
• 加热区长度：200mm
• 恒温区长度：60mm(+/-1℃ @ 1000 ℃ ) 注：由于测量手段及外部环境的影响，测量结果可能会有偏差，此参数仅供参考不作为该设备的技术指标。您购买产品需要准确的恒温区数据，请与我公司销售人员 
• 炉管：高纯石英管，尺寸50mm O.D x 44mm I.D x 450mm L)（点击图片查看详细资料）
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温度控制系统

• 采用PID30段程序化控温，其控温精度为+/-1℃
• 控温仪表操作视频
• 设有过热和断偶保护
• 热电偶采用K型热电偶
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真空密封

• 采用KF结构密封法兰，硅胶密封圈密封
• 法兰上安装有一机械压力表
• 右端法兰与一个真空不锈钢波纹管连接（不锈钢波纹管zui大伸缩幅度为150mm)
• 真空度：10-2Torr(用机械泵抽）  10-5Torr(用分子泵抽）

坩埚移动机构&PLC控制

• 一个直径为1/4＂的欧米伽铠装热电偶（K型），通过法兰伸入到炉管中，并可随坩埚移动，可实时监测样品的实际温度。
• 通过步进电机移动炉管内的坩埚（样品台），zui大行程为100mm，移动精度为1mm
• 通过触摸屏设定坩埚一定的距离和目标位置，坩埚移动速度为180mm/min(更精确的移动速度，可与本公司定制，需额外收费）
• 可观察下图，了解坩埚与热电偶的安装方法
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zui大加热速率和冷却速率

可通过移动样品到已预加热的炉体中来得到zui大的加热速率，也可将样品迅速移除高温的炉体，来得到zui大的降温速率

可选配件

• 可选购手动挡板阀（图1）
• 防腐型数显真空计（图4）
• 快速连接法兰，以方便于放置样品（图2）
• 多路质量流量计控制的混气系统，用于CVD和DVD实验（图5）
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尺寸

质保

一年质保期，终生维护（不含加热元件、炉管和密封圈）

质量认证

• CE认证
• 所有电器元件（>24V）都通过UL / MET / CSA认证
• 若客户出认证费用，本公司保证单台设备通过德国TUV认证或CAS认证
       

注意事项

• 炉管内气压不可高于0.02MPa
• 由于气瓶内部气压较高，所以向炉管内通入气体时，气瓶上必须安装减压阀，建议在本公司选购减压阀，本公司减压阀量程为0.01MPa-0.1MPa,使用时会更加精确安全
• 当炉体温度高于1000℃时，炉管内不可处于真空状态，炉管内的气压需和大气压相当，保持在常压状态
• 进入炉管的气体流量需小于200SCCM，以避免冷的大气流对加热石英管的冲击
• 石英管的长时间使用温度＜1100℃
• 对于样品加热的实验，不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热，则需时刻关注压力表的示数，若气压表示数大于0.02MPa，必须立刻打开泄气阀，以防意外发生（如炉管破裂，法兰飞出等）

应用

• 此款设备可用于多种实验，以下列出了几种实验方法
• RTE（快速热蒸发）：蒸发料放在坩埚中，放入到炉体中心，基片放在样品台上，样品台与热电偶相连接，然后将样品台移动到理想的位置（此位置温度是实验所需要的温度）
• HPCVD（混合物理化学沉积）：与RTE相似，但需配混气系统，对反应气体混合并控制流量，同时也需设定蒸发料的位置（确定蒸发料的蒸发温度）
• 水平布里奇曼（Bridgman）法来长晶体：将样品和籽晶放入到坩埚中，并将坩埚放入到炉体中心位置，然后设定坩埚移动速度，慢慢移动坩埚