ILION II 697 氩离子抛光仪

Gatan 697 Ilion II宽束氩离子抛光系统是一个用于样品的截面制备及平面抛光的桌面型制样设备，以便样品在SEM及其它设备上进行检测分析。

Gatan 697 Ilion II宽束氩离子抛光系统是一个用于样品的截面制备及平面抛光的桌面型制样设备，以便样品在SEM及其它设备上进行检测分析。可利用IlionII进行抛光加工的材料种类十分广泛，包括由多元素组成的试样，以及具有不同的机械硬度、尺寸和物理特性的合金、半导体材料、聚合物和矿物等。如焊缝截面，集成电路焊点，多层薄膜截面，颗粒、纤维断面，复合材料、陶瓷、金属及合金、矿物及其他无机非金属等各种材料的SEM、EBSD样品。

性能特点：

技术WhisperlokTM，快速样品交换（<20S）

低能聚焦潘宁离子枪（两支）

能量100V-8KV可调

离子枪位置可调，扩展解析深度和加工宽度

液氮冷却系统

配方式操作

扇形区域10—90度可设

全自动化操作，包括马达驱动式离子枪

带有DM软件的数码变焦显微镜

截面加工、平面加工两种模式

氩离子抛光与传统机械抛光相比该设备有如下优势：

1.     可以对各种材料进行断面抛光加工。特别是软硬混合体材料和微小尺寸材料。（如陶瓷材料，纸张材料，半导体晶体材料）

2.     抛光面与机械研磨不同，呈微细镜面。不会有划伤、扭曲变形、凹凸不平、研磨颗粒嵌入样品内部、脱层、孔隙结构填堵等现象。加工的样品反映材料的真实组织结构。

3.     抛光后样品的菊池花样清晰，EBSD分析更加容易。

4.    与FIB装置相比，速度更快，扩大了加工面积，且体积小，衬度高，价格便宜。