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离子溅射仪

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SD-900型离子溅射仪是采用二级(DC)直流溅射原理设计而成的离子溅射镀膜设备

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SD-900型离子溅射仪是采用二级(DC)直流溅射原理设计而成的离子溅射镀膜设备。二极(DC)直流溅射是一种、可靠、经济的镀膜技术,是许多厂商提供的离子溅射仪的基础。

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V技术规格说明

样品仓尺寸

  φ150mm  h120mm

样品台

  可放置1 2 个标准SEM样品座,高度可在
  30mm内调节

上部电极     

  靶直径5 0 mm,厚度0 .1mm

溅射控制

  电流5 0mA

溅射面积

  φ5 0mm

真空度

  ≤4×10-2mbar

靶材

  金靶、银靶、 铂靶

溅射速率

  优于5nm/min (金靶)

工作电压

  220V, 50HZ

输出电压

  -1600V



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