ME-L 光学镀膜椭偏仪

简要描述：光学镀膜椭偏仪ME-L 是一款科研级全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪，凝聚了颐光科研团队在椭偏技术多年的投入，其采用行业前沿的创新技术，包括消色差补偿器、双旋转补偿器同步控制、穆勒矩阵数据分析等。可应用于各种各向同性/异性薄膜材料膜厚、光学纳米光栅常数以及一维/二维纳米光栅材料结构的表征分析。

名   称：光学镀膜椭偏仪

型   号：ME-L 

品   牌：颐光

光学镀膜椭偏仪在手机盖板中的应用

光学镀膜就好比女士化妆，不仅可使玻璃盖板、背板更漂亮，也可以起到抗氧化、耐酸碱等作用，所以在如今这个“看脸”的时代，盖板的光学镀膜是非常重要的，目前常见的包括AR、AF、AG及后盖颜色膜等镀膜应用。

 光学镀膜椭偏仪盖板光学镀膜痛点分析

1、AR膜透过率不合格NG

2、颜色膜调色困难，周期长。

3、量产过程产品不稳定，存在色差。

椭偏仪在光学镀膜各阶段的作用

造成盖板光学镀膜产品不良的主要因素在于：

A；仿真设计调用材料折射率与镀膜生产中实际材料折射率不符。

B；镀膜设备实际镀层厚度与膜系设计要求不符。

C；量产过程对镀膜设备稳定性/均匀性缺乏有效评估手段。

椭偏仪可以有效测量修正上述影响因子，为盖板量产保驾护航。

1：膜系设计——膜层实际折射率的标定

★镀膜实际折射率的影响因素：供氧量、真空度、电子枪光斑大小、温度等

★椭偏仪可直接测量获得薄膜材料的光学常数和薄膜厚度，因此通过镀膜机在Si衬底或玻璃衬底上镀单层SiO2、TiO2、Nb2O5、In薄膜，可直接准确测量获得薄膜的光学常数。

★通过调整镀膜机参数，以椭偏仪测量获得的单层SiO2、TiO2、Nb2O5、In薄膜光学常数为反馈，将薄膜材料光学常数调整至状态。此时对应的镀膜机参数即为厚度镀膜时所需设定的终参数。

2：工艺研发——镀膜设备tolling校正

★通常来说，镀膜机通过晶振来控制镀膜厚度，而实际上由于这种晶振式膜厚仪的精度不足，导致实际镀膜厚度与设定镀膜厚度存在较大偏差。在镀膜机中，可通过工具因子（Tooling值）控制镀膜机的蒸镀速率，进而可对实际镀膜厚度进行调控。

★椭偏仪可以准确测量获得薄膜的厚度，因此可用于校正镀膜机的工具因子（Tooling值），使实际镀膜厚度与设定镀膜厚度*。

3；量产监控——实时监测各项镀膜指标

★镀膜膜厚是否在设计范围。

★材料折射率有无显著波动。

★透过率是否满足工艺需求。

★色度值是否满足工艺需求。

★反射率是否满足工艺需求。

光学镀膜椭偏仪售后服务：

1、厂家货源

   货源有保障，可以根据客户不同测试需求，提供不同测试方案。

2、关于售后

   4小时电话响应，24小时内安排。终生维护。

3、关于发货

   到款4-5天内到货，江苏、深圳区域第二天可以到货。