椭偏仪的发展展望
【仪器网 产品文库】椭偏仪是一种用于探测薄膜厚度、光学常数以及材料微结构的光学测量仪器。
椭偏仪发展展望
椭偏测量具有非接触性、非破坏性、测量精度高和适于测量较薄膜层的特点,成为了半导体工业常用的薄膜测量工具。由于半导体制造业在器件关键尺寸上的测量要求越来越,薄膜常用材料日益多样化,薄膜的结构越来越复杂,需要进一步改进椭偏仪。目前椭偏仪的主要发展趋势包括:
1、寻找较高强度的红外光源,拓宽椭偏仪的光谱范围,以准确确定异质结构的多层膜结构;
2、建立包含成像椭偏仪的校准因素的系统模型,以减小成像椭偏仪的测量误差;
3、对半导体工业常用薄膜材料建立准确的物理模型,以减小系统的计算误差;
4、引入能够同步进行数据获取和数据处理的控制系统,并利用优化算法,较快得出薄膜系统待求参量,以提高椭偏仪的测量速度,增强椭偏仪的在线检测和控制功能。
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