ECLIPSE 显微镜机身采用模块化制造，可满足多领域的工业应用，其中包括半导体器件、封装、FPD、电子器件、材料和精密模具制造等。ECLIPSE LV 系列经过不断的发展完善并配备了新的光学系统和功能，可根据观察方法和目的，选择支架装置和照明装置以满足多种观察需求。用户可选择使用电动和手动操控模式以及反射照明专用模式和反射／透射组合照明模式以满足任何应用需求。
产品概览 |
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1. LV-N 系列型号特点
2. 经过改进的光学性能： 以的高数值孔径和长工作距离设计理念而著称的尼康 CFI60 光学系统经过进一步改进，具有的长工作距离、色差校正性能和更轻的重量。
3. 与数码相机集成，操作轻松
4. 用于显微观察“Digital Sight System”的数码相机系统
5. 可支持多种观察方法：明场、暗场、偏光、微分干涉、落射荧光和双光束干涉测量等。
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镜头规格 |
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尺寸 |
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