TEUS-S100、TEUS-S200、TEUS-S400 激光驱动高亮EUV光源

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TEUS-LPP EUV光源基于快速旋转液态金属靶，这种新型LPP靶结合了传统的碎片减缓技术，是清洁极紫外光源的解决方案。

特征优势

将液滴碎片重定向远离输入（激光）和输出（EUV）窗口 用于高重复率激光系统（高达1Mhz）的不受干扰的靶材表面 由于靶材是连续的，所需的同步最小 高亮度，高通量，优秀的空间稳定性 的正常运行时间 高占空比，交钥匙作业

高速转速：液滴的重定向

高转速允许初始速度与目标线速度相当的液滴的角速度分布发生剧烈变化（受版保护的关键要素、一般原理和技术）

高旋转速度导致的液滴减缓效果的演示

	EUV收集角（sr）	激光平均功率（W）	脉宽（ns）	重频（kHz）	等离子体尺寸（μm）	亮度（W/mm2sr）	EUV功率（mW）	收集器寿命
TEUS-S100	0.05	100	1.5	25	60	110	5	>1年
TEUS-S200		200		50		220	10	>半年
TEUS-S400		400		100		450	20	>半年

典型应用

• 掩膜及表面检测

• 图形化掩膜检测

• 掩膜空间像检测

• 材料科学

• 晶圆检测

• 极紫外扫描光刻工艺链中的极紫外光学器件检测