μMLA 无掩膜激光直写

μMLA是桌面式激光直写的新技术，在科研微结构的应用领域中是一台适合入门级的工具。μMLA具有灵活性和可定制性，可支持小至毫米大小范围的样品。

μMLA原理：

利用强度可变的激光束对基片表面的抗蚀材料实施变剂量曝光，显影后便在抗蚀层表面形成要求的图形。

μMLA具有以下优点：

Ÿ 分辨率高

Ÿ 无掩模光刻

Ÿ 灵活性与可定制性

Ÿ 可以设定多样的实验条件

主要功能

Ÿ 光栅扫描曝光

Ÿ 快速曝光复杂的图形

Ÿ 灰度光刻

技术能力

Ÿ 基板尺寸：从5毫米到5英寸

Ÿ 特征尺寸：低至0.6 µm

Ÿ 写入速度（4 µm分辨率）：200 mm 2 / min

Ÿ 实时自动对焦系统

Ÿ 正面对准

Ÿ 易于使用的操作软件

Ÿ 2种可用的光学设置

Ÿ 曝光模块选择：光栅和/或矢量扫描

Ÿ 可变分辨率

Ÿ 绘画模式

Ÿ 波长（光栅扫描）：390 nm或365 nm曝光波长

Ÿ 波长（矢量扫描）：405 nm和/或375 nm

Ÿ 广角摄像机，用于对准和检查

应用

半导体芯片、微机电、微流体、微光学、掩模版及其他有微纳米结构需求的领域。