Park NX-Hivac通过为失效分析工程师提供高真空环境来提高测量敏感度以及原子力显微镜测量的可重复性。与一般环境或干燥N2条件相比，高真空测量具有准确度高、可重复性好及针尖和样本损伤低等优点，因此用户可测量各种故障分析应用中许多信号响应，例如扫描扩散电阻显微术(SSRM)的掺杂物浓度。Park NX-Hivac使得真空环境中高精确度和高分辨率测量的材料科学研究远离氧气与其它药剂的影响，在高真空条件下执行扫描扩散电阻显微镜测量可减少所需的针尖-样本相互作用力，从而大幅度降低对样本和针尖的损伤。
如此可延长各针尖的使用寿命，使扫描更加低成本和便捷，并通过提高空间分辨率和信噪比得到更为精确的结果。因此，利用NX-Hivac进行的高真空扫描扩散电阻显微术测量可谓是故障分析工程师增加其吞吐量、减少成本和提高准确性的明智选择。
基本技术参数
扫描仪 | 光学显微镜 | 样品台 |
XY扫描仪：50 μm x 50 μm （100 μm x 100 μm可选） | 物镜：10x 5M pixel CCD | XY平台行程：22 mm x 22mm 样品大小：50mm x 50mm，厚度20 mm |
物理信息 | 软件 | 高真空 |
真空室：300mm x 420mm x 320mm | SmartScan：Park AFM操作软件 XEI: AFM数据分析软件 Hiva Manager:自动真空控制软件 | 真空等级：小于 1 x 10-5 torr 泵速：5 min内达到10-5 torr |
主要功能
用于失效分析应用的高真空扫描
Park NX-Hivac允许故障分析工程师通过高真空SSRM提高的灵敏和分辨率。高真空扫描能提供比大气或干燥的N2条件下更高的精度，更好的可重复性，还能减少针尖和样品损伤 ，用户从而可以在失效分析应用中测量更广阔范围的涂料浓度和信号强度，
高级的自动化特征
用户所需的输入操作简单，用户可以更快地扫描从而提高实验室的实验成果。
应用
在二维金属材料电性能方面的研究
C-AFM in Air vs High Vacuum MoS2
在空气和真空下MoS2 的AFM 图
相关文献
Jonathan Ludwig et al，”Effects of buried grain boundaries in multilayer MoS2”Journal：Nanotechnology, Volume 30, Number 28.
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