仪器名称：全自动离子溅射仪 型号：ETD-800
原理：二极直流溅射
仪器名称：离子溅射仪 型号：ETD-900M
原理：磁控溅射
在磁控溅射中，由于运动电子在磁场中受到洛仑兹力，它们的运动轨迹会发生弯曲甚至产
生螺旋运动，其运动路径变长，因而增加了与工作气体分子碰撞的次数，使等离子体密度增大，从而磁控溅射速率得到很大的提高，而且可以在较低的溅射电压和气压下工作。同时，经过多次碰撞而丧失能量的电子到达阳极时，已变成低能电子，从而不会使基片过热。
电压：-1200 DCV
ETD-900M参数：
主机规格：300mm×360mm×380mm（W×D×H）
靶（上部电极）：50mm×0.1mm（D×H）
靶材：Au（标配）
样品室：硼硅酸盐玻璃 160mm×120mm（D×H）
靶材尺寸：Ф 50mm
真空指示表： 真空度：≤ 4X10-2 mbar
离子电流表： 电流：50mA
定时器： 最长时间：0-360S
微型真空气阀：可连接φ 3mm 软管
可通入气体： 多种
电压： -1600 DCV
机械泵：标准配置 2L/S（国产 VRD-8）
适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备。
特点：可以通过更换不同的靶材（金、铂、银等），以达到更细颗粒的涂层。
一键式操作，使用方便。
ETD-900M用途：
适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。
特点：*您想获取产品的资料：
个人信息：
