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Helios 5 DualBeam FIB双束电镜

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        新一代的赛默飞世尔科技 Helios 5 DualBeam 具有 Helios 5 产品系列业界的高性能成像和分析性能。它经过精心设计,可满足材料科学研究人员和工程师对泛的 FIB-SEM 使用需求,即使是挑战性的样品。


        Helios 5 DualBeam 重新定义了高分辨率成像的标准:的材料对比度,、、确的高质量样品制备,用于 S/TEM 成像和原子探针断层扫描(APT)以及质量的亚表面和 3D 表征。在 Helios DualBeam 系列久经考验的性能基础上,新一代的 Helios 5 DualBeam 进行了改进优化,所有这些都旨在确保系统处于手动或自动工作流程的运行状态。

    半导体行业技术参数:





    Helios 5 CX

    Helios 5 HP

    Helios 5 UX

    Helios 5 HX

    Helios 5 FX

     

    样品制备与 XHR 扫描电镜成像

    最终样品制备 (TEM薄片,APT)

    STEM 亚纳米成像与样品制备

    SEM

    着陆电压

    20 eV~30 keV

    20 eV~30 keV

    分辨率

    0.6 nm@15 keV

    1.0 nm@1 keV

    0.6 nm@2 keV

    0.7 nm@1 keV

    1.0 nm@500 eV

    STEM

    分辨率@30 keV

    0.7 nm

    0.6 nm

    0.3 nm

    FIB制备过程

    材料去除束流

    65 nA

    100 nA

    65 nA

    最终抛光电压

    2 kV

    500 V

    TEM样品制备

    样品厚度

    50 nm

    15 nm

    7 nm

    自动化

    样品处理

    行程

    110×110×65 mm

    110×110×65 mm

    150×150×10 mm

    100×100×20 mm

    100×100×20 mm+5轴(STEM Compustage

    快速进样器

    手动

    自动

    手动

    自动

    自动+自动插入/提取STEM 样品






    材料科学行业技术参数:


     

     

    Helios 5 CX

    Helios 5 UX

    离子光学

     

    具有越的大束流性能的Tomahawk HT 离子镜筒

    具有越的大流和低电压性能的Phoenix 离子镜筒

    离子束电流范围

    1 pA – 100 nA

    1 pA – 65 nA

    加速电圧

    500 V – 30 kV

    500 V – 30 kV

    水平视场宽度

    束重合点0.9 mm

    束重合0.7 mm

    离子源寿命

    1,000 小时

    1,000 小时

     

    两级差分抽吸

    两级差分抽吸

    飞行时间校准

    飞行时间校准

    15孔光阑

    15孔光阑

    电子光学

    Elstar超高分辨率场发射镜筒

    Elstar超高分辨率场发射镜筒

    磁浸没物镜

    磁浸没物镜

    高稳定性肖特基场发射枪提供稳定的高分辨率分析电流

    高稳定性肖特基场发射枪提供稳定的高分辨率分析电流

    电子束分辨率

    工作距离下

    0.6 nm @ 30 kV STEM

    0.6 nm @ 30 kV STEM

    0.6 nm @ 15 kV

    0.7 nm @ 1 kV

    1.0 nm @ 1 kV

    1.0 nm @ 500 V (ICD)

    0.9 nm @ 1 kV 减速模式*

     

    在束流重合点

    0.6 nm @ 15 kV

    0.6 nm @ 15 kV

    1.5 nm @ 1 kV 减速模式*  DBS*

    1.2 nm @ 1 kV

    电子束参数

    电子束流范围

    0.8 pA ~ 176 nA

    0.8 pA ~ 100 nA

    加速电压范围

    200 V ~ 30 kV

    350 V ~ 30 kV

    着陆电压

    20 eV ~ 30 keV

    20 eV ~ 30 keV

    水平视场宽度

    2.3 mm @ 4 mm WD

    2.3 mm @ 4 mm WD

    探测器

    Elstar 镜筒内 SE/BSE 探测器 (TLD-SE, TLD-BSE)

    Elstar 镜筒内 SE/BSE 探测器 (ICD)*

    Elstar 镜筒内 BSE 探测器 (MD)*

    样品室内 Everhart-Thornley SE 探测器 (ETD)

    红外相机

    高性能离子转换和电子探测器 (SE)*

    样品室内 Nav-Cam 导航相机*

    可伸缩式低电压、高衬度、分割式固态背散射探测器 (DBS)*

    可伸缩STEM 3+ 探测器*

    电子束流测量

    样品台和样品

    样品台

    高度灵活五轴电动样品台

    压电陶瓷驱动 XYR 轴的高精度五轴电动工作台

    XY

    110 mm

    150 mm

    Z

    65 mm

    10 mm

    R

    360° (连续)

    360° (连续)

    倾斜

    -15° ~ +90°

    -10° ~ +60°

    样品高度

    与优中心点间隔 85 mm

    与优中心点间隔 55 mm

    样品质量

    样品台任意位置 500 g

    样品台任意位置 500 g

     0° 倾斜时 5 kg

    样品尺寸

    直径 110 mm可沿样品台旋转时

    直径 150 mm可沿样品台旋转时

     

    优中心旋转和倾斜

    优中心旋转和倾斜




    更易于使用:

    Helios 5 对所有经验水平用户而言都是最容易使用的 DualBeam 系统。操作人员培训可以从几个月缩短到几天,其系统设计可帮助所有操作人员在各种高级应用程序上实现一致、可重复的结果。


    提高了生产率:

    Helios 5 和 AutoTEM 5 软件的*自动化功能,增强的可靠性和稳定性允许无人值守甚至夜间操作,显著提高样品制备通量。


    改善时间和结果:
    Helios 5 DualBeam 引入全新精细图像调节功能 FLASH (闪调)技术。借助 FLASH 技术,您只需在用户界面中进行简单的鼠标操作,系统即可“实时”进行消像散、透镜居中和图像聚焦。自动调整可以显著提高通量、数据质量并简化高质量图像的采集。平均而言,FLASH 技术可以使获得优化图像所需的时间最多缩短 10 倍。


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