F50/F54 自动膜厚测量仪

KLA的 Filmetrics 系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量，其测量范围从 nm-mm，可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量，被广泛应用于半导体、微电子、生物医学等领域。Filmetrics 具有 F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t 等多款产品，可测量从几 mm到450mm 大小的样品，薄膜厚度测量范围 1nm到mm 级。Filmetrics F50 系列的产品能以每秒测绘两个点的速度快速的测绘薄膜厚度，配备R-θ 极坐标标准和订制化样品盘，样品直径可达450毫米。

测量原理-光谱反射

光谱椭圆偏振仪 (SE) 和光谱反射仪 (SR) 都是利用分析反射光确定电介质，半导体，和金属薄膜的厚度和 折射率。 两者的主要区别在于椭偏仪测量小角度从薄膜反射的光, 而光谱反射仪测量从薄膜垂直反射的光。光谱反射仪测量的是垂直光，它忽略偏振效应 （绝大多数薄膜都是旋转对称）。 因为不涉及任何移动设备，光谱反射仪成为简单低成本的仪器。光谱反射仪可以很容易整合加入更强大透光率分析。光谱反射仪通常是薄膜厚度超过 10um 的，而椭偏仪侧重薄于10nm 的膜厚。在 10nm 到 10um 厚度之间，两种技术都可用。 而且具有快速，简便，成本低特点的光谱反射仪通常是更好的选择。

主要应用

测量厚度、折射率、反射率和穿透率

• 单层膜或多层膜叠加
• 单一膜层
• 液态膜或空气层
• 膜厚2D和3D mapping绘制

技术能力

• 光谱波长范围：190-1700 nm
• 厚度测量范围：1nm-250 μm
• 测量 n&k 最小厚度：50 nm
• 准确度：取较大值，1nm 或 0.2%
• 精度：0.02nm
• 稳定性：0.05nm
• 光斑大小：1.5mm
• 标准卡盘：直径 200mm 或 300mm
• 选择显微镜模块，可升级为 F54

半导体薄膜：光刻胶、工艺薄膜、介电材料、CMP

液晶显示：OLED、玻璃厚度、ITO

光学镀膜：硬涂层厚度、减反涂层

高分子薄膜：PI、PC