SLIA-2000 二氧化硅分析装置

二氧化硅分析装置自动连续监测锅炉水中二氧化硅的浓度和半导体清洗用超声波纯水中二氧化硅的浓度。检测速度快，重现性高，既可以检测低浓度二氧化硅，也可检测高浓度二氧化硅，可有效提高锅炉的启动时间，强化半导体和化工领域的质量管理。

产品介绍

二氧化硅分析装置

自动连续监测锅炉水中二氧化硅的浓度和半导体清洗用超声波纯水中二氧化硅的浓度。检测速度快，重现性高，既可以检测低浓度二氧化硅，也可检测高浓度二氧化硅，可有效提高哦啊锅炉的启动时间，强化半导体和化工领域的质量管理。

测量范围：0～10ug/100ug/L、0～50ug/500ug/L、0～100ug/1000ug/L、0～200ug/2000ug/L、0～0.5mg/5mg/L

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自动连续监测锅炉水中二氧化硅的浓度和半导体清洗用超声波纯水中二氧化硅的浓度。检测速度快，重现性高，既可以检测低浓度二氧化硅，也可检测高浓度二氧化硅，可有效提高哦啊锅炉的启动时间，强化半导体和化工领域的质量管理。

测量范围：0～10ug/100ug/L、0～50ug/500ug/L、0～100ug/1000ug/L、0～200ug/2000ug/L、0～0.5mg/5mg/L