溅射蒸发一体机,用于形貌观察前在不导电样品（如高分子材料、无机非金属材料等）表面喷镀上一层金膜（铂，银，钯等）或者薄碳层，减少因电子束在样品表面的积聚而产生的荷电效应，使得形貌观察更容易，提高成像质量。可以用于制作电极观察导电特性。参数：²仪器尺寸 ：主机 300mm×360mm×380mm（W×D×H）蒸镀 300mm×360mm×160mm（W×D×H）²真空样品室： 硼硅酸盐玻璃 160mm×110mm（D×H）²靶（上部电极）：50mm×0.1mm（D×H）²溅射靶材：Au²溅射靶材大小：φ50mm²样品台：50mm (D)²溅射工作电压：0-1600V (DC)可调²溅射电流：0-50mA²溅射定时：0-360S²蒸碳电流 0-100A(AC)²蒸发材料：碳纤维 ²蒸发工作电压：0-30V²蒸发时间：0-1S²微型真空气阀：可连接φ3mm软管²可通入气体： 多种²真空泵： 2升机械旋转泵（国产VRD-8）
SD-900C 型离子溅射仪外观亮丽做工精致，是北京博远微纳科技有限公司针对SEM用户研制生产的一款既能溅射金、银、铂又能蒸发碳膜的一机多用设备。 特点： 1、简单、经济、可靠、外观精美。 2、可调节溅射电流和真空室压强以控制镀膜的速率和颗粒的大小。 3、SETPLASMA手动启动按钮可预先设置好压强和溅射电流避免对膜造成不必要的损伤。 4、真空保护可避免真空过低造成设备短路。 5、同时可以通过更换不同的靶材（金、铂、铱、银等），以达到更细颗粒的涂层。 6、通过通入不同的惰性气体以达到更纯净的涂层。 7、独立的溅射、蒸发上盖和玻璃腔体防止交叉污染。 8、一体机更加经济实惠。 9、碳纤维绳更加细腻均匀、快速，更有利于分析材料结构。 10、溅射蒸发功能转换方便快捷。
此款机器具有小巧方便操作简单成膜效果好之优点，可以满足广大SEM用户随时样品制备的需要。
工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体，获得镀膜效果。
配有高位定性的真空泵.
电子束敏感的样品:
主要包括生物样品，塑料样品等。S EM中的电子束具有较高能量，在与样品的相互作用过程中，它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料，那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下，用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用，防止此类损伤；
非导电的样品:
由于样品不导电，其表面带有“电子陷阱”，这种表面上的电子积累被称为“充电”。为了消除荷电效应，可在样品表面镀一层金属导电层，镀层作为一个导电通道，将充电电子从材料表面转移走，消除荷电效应。在扫描电镜成像时，溅射材料增加信噪比，从而获得更好的成像质量。
新材料:
非导电材料实验电极制作观察导电特性。
一般来说，用于扫描样品时金属的厚度为100-300Å,采用经验法测定厚度，可由下面的公式得到
d = KIVT
其中： d：是镀膜厚度(单位Å)
K：是常数，取决于溅射金属和所充气体(采用金靶和氩气时K为0.17，金靶和空气K为0.07)，此时靶与样品之间的距离
I： 是等离子流(单位mA)
V：是所施电压(单位kv)
T“”是时间(单位s)。
例如采用金靶和氩气，l为8mA,T为100秒，V为1KV
则, d = KIVT = 0. 17×8×l×100 = 136Å
即每秒1.36Å
溅射速度依赖于溅射系统本身的清洁程度，因此保护工作室的清洁十分重要。
其它金属靶的溅射速度，例如铂靶大约是金靶一半的速度，金一铂靶则具有与金靶非常接近的溅射速度。
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