Leica EM ACE200 低真空镀膜仪

Leica EM ACE200 低真空镀膜仪 2018/06/20 　　Leica EM ACE200是一款低真空镀膜仪，可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能，或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求，也可用于X-射线能谱及波谱分析，或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等全过程，一键操作。采用当下非常流行的触摸屏控制，简单方便。特点　　• 可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式，或者双模式，可选辉光放电（用于网格表面亲水化）　　• 设计脉冲式碳丝蒸发方式，可精确控制碳膜厚度　　• 可选石英膜厚检测器，精确控制镀膜厚度，精度达0.1nm　　• 全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程　　• 触摸屏控制，简单方便　　• 真空度≤7×10 -3 mbar　　• 溅射电流：0-150mA可调　　• 方形样品仓设计，样品仓尺寸：140mm（宽）×145mm（深）×150mm（高）　　• 工作距离调节范围：30mm-100mm

　　Leica EM ACE200是一款低真空镀膜仪，可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能，或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求，也可用于X-射线能谱及波谱分析，或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等全过程，一键操作。采用当下非常流行的触摸屏控制，简单方便。

特点

　　• 可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式，或者双模式，可选辉光放电（用于网格表面亲水化）

　　• 设计脉冲式碳丝蒸发方式，可精确控制碳膜厚度

　　• 可选石英膜厚检测器，精确控制镀膜厚度，精度达0.1nm

　　• 全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程

　　• 触摸屏控制，简单方便

　　• 真空度≤7×10 -3 mbar

　　• 溅射电流：0-150mA可调

　　• 方形样品仓设计，样品仓尺寸：140mm（宽）×145mm（深）×150mm（高）

　　• 工作距离调节范围：30mm-100mm