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Leica EM ACE600 高真空镀膜仪

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Leica EM ACE600 高真空镀膜仪 2018/06/20   Leica EM ACE600 是一款高真空镀膜仪,真空泵采用隔膜泵和涡轮分子泵,无油真空系统,真空度可达2×10 -6 mbar。镀膜细腻均匀。内置石英膜厚检测器,可精确控制镀膜厚度。全自动电脑控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等全过程,一键操作。采用触摸屏控制,简单方便。仪器可选离子溅射镀金属膜,满足高分辨场发射扫描电镜(FE-SEM)需求。可选碳丝蒸发镀碳膜,用于X-射线能谱及波谱分析,或者TEM铜网镀碳膜。还可以选择电子束蒸发方式镀膜,获得极其细腻的金属膜与碳膜,可用于DNA投影等特殊用途。  特点  • 可任选离子溅射模式,碳丝蒸发镀碳模式,碳棒(热阻)蒸发模式,电子束蒸发模式,双溅射模式,溅射-碳丝模式,溅射-碳棒模式,溅射-电子束模式,双电子束模式,可兼容EM VCT500冷冻传输系统,可选辉光放电(用于网格表面亲水化)  • 设计脉冲式碳丝蒸发方式,可精确控制碳膜厚度  • 内置石英膜厚检测器,精确......

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  Leica EM ACE600 是一款高真空镀膜仪,真空泵采用隔膜泵和涡轮分子泵,无油真空系统,真空度可达2×10 -6 mbar。镀膜细腻均匀。内置石英膜厚检测器,可精确控制镀膜厚度。全自动电脑控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等全过程,一键操作。采用触摸屏控制,简单方便。仪器可选离子溅射镀金属膜,满足高分辨场发射扫描电镜(FE-SEM)需求。可选碳丝蒸发镀碳膜,用于X-射线能谱及波谱分析,或者TEM铜网镀碳膜。还可以选择电子束蒸发方式镀膜,获得极其细腻的金属膜与碳膜,可用于DNA投影等特殊用途。

  

特点

  可任选离子溅射模式,碳丝蒸发镀碳模式,碳棒(热阻)蒸发模式,电子束蒸发模式,双溅射模式,溅射-碳丝模式,溅射-碳棒模式,溅射-电子束模式,双电子束模式,可兼容EM VCT500冷冻传输系统,可选辉光放电(用于网格表面亲水化)

  设计脉冲式碳丝蒸发方式,可精确控制碳膜厚度

  内置石英膜厚检测器,精确控制镀膜厚度,精度达0.1nm

  全自动程序控制,自动完成抽真空,镀膜,放气等过程

  触摸屏控制,简单方便

  采用隔膜泵+涡轮分子泵,无油真空系统,真空度≤2×10 -6 mbar

  溅射电流:0-150mA可调

  方形样品仓设计,样品仓尺寸:200mm(宽)×150mm(深)×195mm(高)

  样品台内置旋转,工作距离调节范围:30mm-100mm



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