一、 简介
测量原理-光谱反射
光谱椭圆偏振仪 (SE) 和光谱反射仪 (SR) 都是利用分析反射光确定电介质，半导体，和金属薄膜的厚度和 折射率。 两者的主要区别在于椭偏仪测量小角度从薄膜反射的光, 而光谱反射仪测量从薄膜垂直反射的光。光谱反射仪测量的是垂直光，它忽略偏振效应 （绝大多数薄膜都是旋转对称）。 因为不涉及任何移动设备，光谱反射仪成为简单低成本的仪器。光谱反射仪可以很容易整合加入更强大透光率分析。光谱反射仪通常是薄膜厚度超过10um的，而椭偏仪侧重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之间，两种技术都可用。 而且具有快速，简便，成本低特点的光谱反射仪通常是更好的选择。
二、 主要功能
l 主要应用
测量沉积率、沉积层厚度、光学常数 (n 和 k 值) 和半导体以及电介质层的均匀性
平滑和半透明薄膜
轻度吸收薄膜
实时测量膜厚
l 技术能力
光谱波长范围：380-1050 nm
厚度测量范围：15nm-70μm
*地提高生产力
低成本：几个月就能收回成本
A精确 ：测量精度高于 ±1%
快速：几秒钟完成测量
非侵入式：*在沉积室以外进行测试
易于使用：直观的 Windows™ 软件
几分钟就能准备好的系统
三、 应用
半导体制造：光刻胶、氧化物、氮化物
液晶显示器：液晶间隙、聚酰亚胺保护膜、纳米铟锡金属氧化物
生物医疗原件：聚合物/聚对二甲苯涂层、生物膜/气泡球厚度、药物涂层支架
微机电系统：硅膜、氮化铝/氧化锌薄膜滤镜
光学镀膜：硬镀膜、增透镀膜、Filters滤光
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