HEM

简介：典型应用扫描电子显微镜SEM场发射电子显微镜FEM半导体分析，加工和修理离子束刻蚀聚焦离子束光刻纹波2ppm

TYPICAL APPLICATIONS
Transmission scanning electron microscopy
Scanning electron microscopy
Semiconductor analysis, milling and repair
Ion beam etching
Focused ion-beam lithography

纹波2ppm

　　威思曼高压电源的HEM系列是综合的多输出高电压电源，于聚焦离子束。典型的应用包括透射和扫描电子显微镜；半导体分析，铣削和修复光盘驱动器头，离子；束刻蚀和聚焦离子束光刻。模块化设计方法，允许个别组件可以很容易地配置在一个共同的机架大底盘安装装配。接口，逻辑和控制电路是采用表面贴装技术，尽量减少成本和尺寸。集成加速电源、灯丝电源，吸取极电源，抑制极电源和镜头电源。超低输出纹波，的调整率、稳定性、温漂、精度。高电压悬浮、数字化控制技术。HEM系列高精度模块价格有竞争力，是OEM应用的理想选择。

技术参数：

输入:DC24V, 47到63Hz

加速极电源
输出电压：0到-35KV
输出电流：450μA
纹波：70 mV P-P，从0.1 Hz到1MHZ
线路调整率：输入变化+ / -10％为100mV
负载调整率：± 0.01％,电压,满负荷变化
稳定度：预热2小时候后，1.5V/10小时
温度系数：25 PPM / °C

灯丝电源
输出电压：0至5 VDC
输出电流：0到5 A
纹波：10mA P-P,从0.1 Hz到1MHZ
线路调整率：+ / -10％变化为5mA
负载调整率：± 0.1％,电压,满负荷变化
稳定性：预热2小时后5mA/10分钟
温度系数：200 PPM / °C

抑制极电源
输出电压：-10v 到- 2kv
输出电流：300uA
纹波：20 mV P-P，从0.1 Hz到1MHZ
线路调整率：输入+ / -10％变化为100mV
负载调整率：± 0.01％，电压，满负荷变化
稳定性：预热2小时后，500mV/10小时
温度系数：25 PPM / °C

吸取极电源
输出电压：0到-15KV
输出电流：400μA
纹波：30 mV P-P，从0.1 Hz到1 MHZ,30μA以下
线路调整率：输入+ / -10％的变化为100mV
负载调整率：± 0.01％,电压,满负荷变化
稳定性：预热2小时后，500mV/10小时
温度系数：25 PPM / °C

威思曼高压电源有限公司是直流高压电源和一体化X射线源供应商，同时提供标准化产品和定制设计服务。产品广泛应用于医疗,工业,半导体,安全,分析仪器，实验室以及海底光纤等设备。