离子束刻蚀系统

离子束刻蚀系统仪器应用：
离子抛光
离子清洗
等离子体灰化
等离子体氧化、氮化
表面改性
反应刻蚀
生物医药
传感器

仪器应用：
离子抛光
离子清洗
等离子体灰化
等离子体氧化、氮化
表面改性
 反应刻蚀
 生物医药
传感器

技术参数：
1，真空系统：
尺寸： 72英寸X 50英寸
真空泵：分子泵+机械泵
本底真空：1X10E-7Torr
2， 样品台：
样品大小：150mm
处理角度：0-180度
旋转速度：0-20RPM
冷却：水冷
3， 离子源
孔径：22厘米
栅格：2个，钼材质
激发：RF射频
电性中和：PBN
束流： 200-1000V， 0-1000mA
工作气体：Ar,Xe,N2,O2,CF4,SF6,CH4,C2H6
SIMS终点监测

主要特点：
RF or DC 离子源， 8-22厘米Gridded Kaufman离子源
单片样品传输腔
高效率高产量，低能量等离子体源
大直径至150毫米样品表面处理
<3% 非均匀性
 水冷，倾斜，旋转
操作简便，小型设备，皮实耐用
SIMS终点监测
全部电脑操作
反应离子刻蚀
单片样品台/三片行星式旋转样品台