PlasCalc 等离子体监测控制仪

PlasCalc 等离子体监测控制仪，实现200nm-1100nm波段内的等离子体测量，通过高级过程控制系统及精密数据存取算法，只需3m就可以获得测量结果。

PlasCalc 等离子体监测控制仪

PlasCalc 等离子体监测控制仪，实现200nm-1100nm波段内的等离子体测量，通过高级过程控制系统及精密数据存取算法，只需3m就可以获得测量结果。

特点

光学分辨率1.0nm(FWHM)

光谱范围 200-1100nm

快速的建模及存储实验方法

Recipe编辑器

Recipe编辑器有助于简单快捷的配置、构建及存储实验方法。对一些困难的等离子体工序诸如膜沉积测量、等离子体蚀刻监测、表面洁度监测、等离子体室控制及异常污染、排放监测等，能够快速简单的构建模块过程控制。

多种工具用于等离子体诊断

随PlasCalc配置的操作软件，集成的程式编辑器能够容易实现多种数学算法功能。可选的波长发生器（可以单独购买）用于类型确认，而波长编辑器可以用于优化信噪比。双窗口界面用于显示实际光谱及所有过程控制信息。

PlasCalc 配置说明

重量
5 kg

主要特点：
 

1.0nm（半zui大值全波）光学解析度
200～1100nm波长范围

快速建立和保存实验方法 
调制步骤编辑
调制步骤编辑工具可以使用户简单、快速地设置、建立和保存实验方法。利用该工具可以对多数复杂的等离子体过程建立简便而有效的步骤设置：例如测量薄膜沉积情况、监测等离子蚀刻、检查表面清洁处理、分析等离子室健康控制情况、监测反常的污染和排放现象等。

用于简单的等离子体诊断的多重工具
PlasCalc型监控器配有操作软件，所提供的完整的公式编辑器可以进行所有需要的数学和算法功能。我们同时提供一个可选配的放射波长数据库，可以另外单独购买，它能够提供种类的鉴定；而波长编辑器则使用户完成信噪比的优化。操作界面包含两个窗口，可以同时显示真实的光谱和所有控制过程信息。