FT9500X X射线荧光镀层厚度测量

X射线荧光镀层厚度测量 FT9500X系列
极微小部位的薄膜・多层膜测量
通过采用新型的毛细管（X射线聚光系统）和X射线源，把与以往机型（SFT9500）同等强度的X射线聚集在30 μmΦ的极微小范围。因此，不会改变测量精度即可测量几十微米等级的微小范围。同时，也可对几十纳米等级的Au/Pd/Ni/Cu多镀层的各层膜厚进行高精度测量。

X射线荧光镀层厚度测量 FT9500X系列

1. 一、极微小部位的薄膜・多层膜测量
   X射线荧光镀层厚度测量 FT9500X系列通过采用新型的毛细管（X射线聚光系统）和X射线源，把与以往机型（SFT9500）同等强度的X射线聚集在30 μmΦ的极微小范围。因此，不会改变测量精度即可测量几十微米等级的微小范围。同时，也可对几十纳米等级的Au/Pd/Ni/Cu多镀层的各层膜厚进行高精度测量。

2. 二、扫描测量
   FT9500X系列通过微小光束对样品进行XY扫描，可把样品的镀层厚度分布和特定元素的含量分布输出为二维扫描图像数据，更方便进行简单快速的观察。

3. 三、异物分析
    FT9500X系列通过高能量微小光束和高计数率检测器的组合，可进行微小异物的定性分析。利用CCD摄像头选定样品的异物部分并照射X射线，通过与正常部分的能谱差进行异物的定性分析（Al～U）。

     四、技术参数

1. 型号	FT9500X	FT9550X
   测量元素	原子序号Al（13）～Bi（83）
   X射线源	管电压：50（可变更）kV 管电流： 10～1000 µA
   检测器	半导体检测器（无液化氮）
   X射线光束照射	实际照射0.03 mmΦ
   样品观察	CCD摄像头（带变焦功能）
   对焦	激光对焦（自动）
   滤波器	Au极薄膜测量用滤波器
   样品区域	240(W) × 175(D) mm X:220 mm, Y:150 mm, Z:150 mm	420(W) × 330(D) mm X:400 mm, Y:285 mm, Z:50 mm
   测量软件	薄膜FP法（zui大5层）、薄膜检量线法
   安全功能	样品门联锁

   选购项

   能谱匹配软件（材料辨别）