白光干涉仪AE-100M
| AE-100 | |||||
| 产品用途 | |||||
| 结合光学显微镜与白光干涉仪功能的扫描式白光干涉显微镜，结合显微物镜与干涉仪、不需要复杂光调整程序，兼顾体积小、纳米分辨率、易学易用等优点，可提供垂直扫描高度达400um的微三维测量，适合各种材料与微组件表面特征和微尺寸检测。应用领域包含 | |||||
| 产品特点 | |||||
| ● 奈米深度3D检测 ● 高速/无接触量 ● 表面形状/粗糙度分析 ● 非透明/透明材质皆适用 ● 非电子束/非雷射的安全量测 ● 低维护成本 | |||||
| 专业级的3D图形处理与分析软体（Post Topo） | |||||
| ● 提供多功能又具亲和接口的3D图形处理与分析 ● 提供自动表面平整化处理功能 ● 提供高阶标准片的软件自校功能 ● 深度/高度分析功能提供线型分析与区域分析等两种方式 ● 线型分析方式提供直接追溯ISO定义的表面粗糙度（Rorghness）与起伏度 ● （waviness）的测量分析。可提供多达17种的ISO量测参数与4种额外量测数据（Wafer） ● 区域分析方式提供图形分析与统计分析。 ● 具有平滑化、锐化与数字过滤波等多种二维快速利叶转换（FFT）处理功能。 ● 量测分析结果以BMP等多种图形档案格式输出或是Excel文本文件格式输出 | |||||
| 高速精密的干涉解体软体（ImaScan） | |||||
| ● 系统硬件搭配ImgScan前处理软件自动解析白光干涉条纹 ● 垂直高度可达0.1nm ● 高度的分析算法则，让你不在苦候测量结果 ● 垂直扫描范围的设定轻松又容易 ● 有10X、20X、50X倍率的物镜可供选择 ● 平台XYZ位置数显示，使检标的寻找快速又便利 ● 具有手动/自动光强度调整功能以取得*的干涉条纹对比。 ● 具有高精度的PVSI与高速VSI扫描测量模式供选择。 ● 具有的解析算法则可处理半透明物体的3D形貌。 ● 具有自动布补点功能 ● 可自行设定扫描方向 | |||||
| 技术规格参数 | |||||
| 型号 | AE-100M | ||||
| 移动台（mm） | 平台尺寸100*100 ，行程13*13 | ||||
| 物镜放大倍率 | 10X | 20X | 50X | ||
| 观察与量测范围 | 0.43*0.32 | 0.21*0.16 | 0.088*0.066 | ||
| 光学分辨率（um） | 0.9 | 0.69 | 0.5 | ||
| 收光角度（Degrees） | 17 | 23 | 33 | ||
| 工作距离 | 7.4 | 4.7 | 3.4 | ||
| 传感器分辨率 | 640*480像素 | ||||
| 机台重量（kg）/载重kg | 20kg/小于1kg | ||||
| Z轴移动范围 | 45mm , 手动细调 | ||||
| Z轴位置数字显示器 | 分辨率1um | ||||
| 倾斜调整平台 | 双轴/手动调整 | ||||
| 高度测量 | |||||
| 测量范围 | 100（um）（400um ,选配） | ||||
| 量测分辨率 | 0.1mm | ||||
| 重复精度 | ≤ 0.1％ （量测高度:>10um） ≤10um（量测高度1um 10um） ≤ 5nm（量测高度:<1um ） | ||||
| 量测控制 | 自动 | ||||
| 扫描速度（um/s） | 12（zui高） | ||||
| 光源 | |||||
| 光源类型 | 仪器用卤素（冷）光源 | ||||
| 平均使用寿命 | 1000小时100W 500小时（150W） | ||||
| 光强度调整 | 自动/手动 | ||||
| 数据处理与显示用计算器 | |||||
| *处理运算屏幕 | 双核心以上CUP | ||||
| 影像与数据显示屏幕 | 17 " 双晶屏幕 | ||||
| 操作系统 | Windows XP（2） | ||||
| 电源与环境要求 | AC100 --240 V 50-60Hz | ||||
| 环境震动 | VC-C等级以上 | ||||
| 量测与分析软件 | |||||
| 量测软件 | ImScan量测软件 具VSI/ PVS/PSI 量测模式（PSI量测模式需另选配PSI模块搭配） PosTopo 分析软件 | ||||
| 分析软件 | ISO 粗燥度/阶高分析，快速传利业转换和滤波，多样的2D和3D 观测视角圆，外形/面积/体积分析，圆像缩放、标准影像文件格式转换 报表输出，程序教导量测等。 | ||||
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