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简介:上海伯东代理超高真空磁控溅射镀膜机.真空度zui高5E-10Torr,特比适合生长高质量的薄膜或超薄膜,金属与绝缘材料.使用德国Pfeiffer分子泵和美国KRI离子源.
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简介:上海伯东代理磁控溅镀设备FPD-PVD针对中小尺寸的需求开发串集的PVD设备,拥有4个单独的溅镀腔体,让客户能任意搭配沉积的材料,同时保有弹性和具有选择性的系统.
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简介:上海伯东代理E-Beam电子束蒸发镀膜机(电子蒸镀),zui大真空度可达5E-10torr,提供客制化服务.
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简介:上海伯东代理脉冲激光沉积设备PLD-18L,它可以与溅射枪,积液池,高压流变,激光束控制相结合,可以放置8×1英寸的样品或4×2英寸的样品,在真空状态下通过loadlockchamber进行更换,...
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简介:上海伯东代理分子束外延设备MBE-8可以成长三寸以下的样品,样品温度可以加到900摄氏度,如果是两寸以下的样品可以到1100摄氏度.可以装置8个束源炉,zui大容量40cc.配备晶振,束流监控器,...
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简介:分子束外延设备MBE-10配备晶振,束流监控器.高能电子枪以及监控软件.可以装置固体源,气体源/ALD阀,等离子增强型束源炉(plasmacell)及我们特制的电子回旋共振束源炉(ECRplasm...
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简介:上海伯东代理超高真空离子刻蚀机IBE,我们数十年来一直致力于超高压沉积技术,帮客户定制设备完成特殊应用,在客户预算内提供设备和*的设计!
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简介:原子层沉积ALD是基于顺序使用气相化学过程的重要技术之一,它可以被视为一种特殊类型的化学气相沉积CVD.多数ALD反应使用两种或更多种化学物质(称为前驱物,也称为“反应物”).这些前驱物以一种...
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简介:上海伯东针对薄膜封装推出电浆辅助式化学气相沉积,原子层沉积和聚对二甲苯沉积等三种设备,且使用低温的沉积技术,分别在OLED上堆叠多层薄膜,广泛应用于有机发光二极体,有机光伏打电池和材料科学研究.
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简介:上海伯东代理的金属热蒸镀设备加装美国KRI离子源,可以精准的控制蒸发速度,为客户提供*的复合式薄膜,且薄膜的厚度和均匀度小于+/-3%,广泛应用于纳米薄膜,太阳能电池等行业以及金属材料的研究等.
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