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新一代高性能OES光谱仪-全面金属分析控制

关键词:金属 金属加工厂中的来料

概述:新型OE750直读光谱仪具有超高的分析性能水平。它涵盖金属元素的所有光谱,并具备一些低检出限。因此,此款分析仪具备价格高昂的同类仪器所能提供的功能水平,可*为许多金属加工企业提供优质分析。

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更新时间2020年07月21日

上传企业日立分析仪器(上海)有限公司

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中国,2019年12月5日:日立分析仪器(Hitachi High-Tech Analytical Science)是一家日立高新技术公司(TSE:8036)旗下的一家全资子公司,主要从事分析和测量仪器的制造和销售,其已推出一款开创性的OE750型新型直读光谱仪,用于验证金属加工厂中的来料规格分析。


由于供应链变得复杂,*质量策略和要求更高的规格和标准层出不穷,因此金属加工业面临着越来越大的压力,他们需要在投入生产前检查来料是否违反牌号信息,检查杂质和痕量元素的含量。为了满足这些新的QAQC高要求,新型OE750直读光谱仪具有超高的分析性能水平。它涵盖金属元素的所有光谱,并具备一些低检出限。因此,此款分析仪具备价格高昂的同类仪器所能提供的功能水平,可*为许多金属加工企业提供优质分析。

 

OE750实现高分辨率和宽动态范围要归功于采用了先进CMOS探测器技术的革命性新光学理念。因此,这种新型分析仪能覆盖非常宽的波长范围;这意味着该分析仪能测量金属中ppm级别的所有元素。这对于满足当今严格的金属规格分析至关重要,该分析仪可满足相关标准和规格的要求,例如ASTM E415标准中关于碳钢和低合金钢的试验方法和ASTM E1086标准中关于用火花原子发射光谱法分析不锈钢的标准试验方法。

 

OE750的新光学系统设计的一个优点是启动时间短。由于光学系统体积小,不到一小时的时间便可启用仪器。可在需要检查100%来料的情况下,助力实现高批量生产。

 

除了新的光学设计之外,OE750还有其他支持大批量金属分析的技术特性。它有一个新的密封火花台,具有优化层流设计,可降低氩气消耗,降低污染的可能性,并大大降低维护要求。带有低压氩气吹扫的*中压系统可减少泵的使用。这可将泵的功耗降低90%,并避免油气污染,从而增加可靠性和仪器的正常运行时间。这使得OE750具有高可靠性和低运行成本。

 

除创新性硬件技术外,新型OE750还包括可提高性能的软件。例如,它包括日立牌号数据库,该数据库包含来自69个国家的339,000多种材料的1,200多万条记录和标准,减少了人工查阅牌号目录的时间和潜在错误。作为选择方案,它配有SPC/LIMS包,能够轻松有效监控该仪器所涉过程以及由其控制的过程。这是满足IATF 16949等标准要求的理想工具。

 

日立OES产品业务开发经理Wilhelm Sanders表示:“在过去,金属加工企业在购买仪器时,不得不在高分析性能和可接受价格范围之间作出选择。现在有了新型OE750,他们无需想出折中方案了。OE750能凭借一套可使用的解决方案提供全面的金属分析。”

 

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