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¥10000000
简介:上海伯东代理超高真空离子刻蚀机IBE,我们数十年来一直致力于超高压沉积技术,帮客户定制设备完成特殊应用,在客户预算内提供设备和*的设计!
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¥10000000
简介:原子层沉积ALD是基于顺序使用气相化学过程的重要技术之一,它可以被视为一种特殊类型的化学气相沉积CVD.多数ALD反应使用两种或更多种化学物质(称为前驱物,也称为“反应物”).这些前驱物以一种...
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¥10000000
简介:上海伯东针对薄膜封装推出电浆辅助式化学气相沉积,原子层沉积和聚对二甲苯沉积等三种设备,且使用低温的沉积技术,分别在OLED上堆叠多层薄膜,广泛应用于有机发光二极体,有机光伏打电池和材料科学研究.
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¥10000000
简介:上海伯东代理的金属热蒸镀设备加装美国KRI离子源,可以精准的控制蒸发速度,为客户提供*的复合式薄膜,且薄膜的厚度和均匀度小于+/-3%,广泛应用于纳米薄膜,太阳能电池等行业以及金属材料的研究等.
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¥15000000
简介:上海伯东代理的连续式多腔磁控溅镀设备可准确控制其溅镀制程条件,为客户提供更优质的薄膜,广泛应用于纳米研究技术,材料研究,氧化物,氮化物和金属材料的研究,太阳能电池和触碰萤幕等行业.
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¥15000000
简介:上海伯东代理多层膜磁控溅镀设备Multilayersputter拥有基板公自转机构,搭配美国KRI离子源可实现多层膜结构并可以一次批量生产,广泛应用于半导体,纳米科技,太阳能电池,科研等行业,氧化...
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¥15000000
简介:超高真空环境的特征为其真空压力低于10-8至10-12托,超高真空环境对于科学研究非常重要,因实验通常要求在整个过程中,表面应保持无污染状态并可使用较低能量的电子和离子的实验技术使用,而不会受到气...
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¥15000000
简介:上海伯东代理的磁控共溅镀腔提供了准确控制多个磁控溅镀的制程条件,加装美国KRi离子源为客户提供更好质量的复合式薄膜.单片和多片式的loadingchamber,可节省其制程腔体的抽气时间,进而节省...
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¥15000000
简介:上海伯东代理剥离成形电子束设备可以准确的控制蒸发速度,因此薄膜厚度和均匀度皆小于±3%,客制化的基板尺寸,zui大直径可达12寸晶圆,腔体的极限真空度约为10-8Torr.
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¥15000000
简介:上海伯东代理SYSKEY中国台湾矽碁科技超高真空电子束蒸镀设备腔体极限真空度约为10-10Torr,针对超高真空和高温加热设计基板旋转镀膜机构,使用陶瓷培林旋转,并在内部做水冷循环来保护机构以确保...
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