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简介:PECVD开启式管式炉系统在真空压力下,加在电感线圈的射频电场,使反应室气体发生辉光放电,在辉光发电区域产生大量的电子。这些电子在电场的作用下获得充足的能量,其本身温度很高,它与气体分子相碰撞,使...
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简介:RTP快速退火炉由我公司自主研发的功能强大的加热设备。该产品采用进口红外线加热管加热,造型新颖结构合理,炉体和炉管可以自由滑动,可实现快速升降温。炉管内尺寸130MM,可以直接放下5英寸的材料。试...
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简介:1200℃双温区开启式管式炉以电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构,智能化程序控温系统,可控硅控制,控温精度高;内置两个温区,可以营造不同的温度梯度。双层炉壳间配有风冷系统,有效降低炉壳表面温度;结...
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简介:1100℃高真空气氛炉以掺钼电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构和智能化控温系统,可控硅控制,控温精度高;内胆采用耐温、耐压合金材料;炉门配有循环水冷,保证炉门与炉胆的可靠密封;可选配真空装置,可以...
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简介:真空烧结炉产品参数正在更新中
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简介:1200℃三温区开启式管式炉采用智能化程序控温系统,可控硅控制,控温精度高;双层炉壳间配有风冷系统,有效降低外壳表面温度;开启式炉盖设计,可在高温情况下观察物料反应情况并实现迅速降温;真空级法兰密...
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简介:实验电炉PECVD系统主要用于高校、科研院所用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备,生长薄膜石墨烯,金属薄膜,陶瓷薄膜,复合薄膜等,也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。
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简介:真空热压炉主要由炉体、炉门、加热与保温及测温系统、真空系统、充气系统、水冷系统、控制系统、液压系统等组成。
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简介:1200℃立式开启式管式炉采用智能化程序控温系统,可控硅控制,控温精度高;双层炉壳间配有风冷系统,有效保证外壳表面温度;开启式炉盖设计,可在高温情况下观察物料反应情况并实现迅速降温;真空级法兰密封...
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简介:1700℃三温区管式炉采用智能化自动控温系统、可控硅控制,控温精度高;内置三个温区,可以营造不同的温度梯度;双层炉壳间配有风冷系统,有效降低炉壳表面温度;采用真空级法兰密封,结合我司标准真空、混气...
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