IM4000日立高新离子研磨装置

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2020年01月08日至 2020年02月08日

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模内浇口分离自动化，降低对人的依赖度；传统的塑胶模具开模后产品与浇口相连，需二道工序进行人工剪切分离，模内热切模具将浇口分离提前至开模前，消除后续工序，有利于生产自动化，降低对人的依赖。

日立IM4000离子研磨仪利用氩离子对样品进行无应力加工的理想工具，即可以进行平面加工，也可以进行截面切割，不会产生传统的切割或机械抛光带来的变形错位、机械应力或划痕污染等对样品的形貌观察和结构分析带来的不利影响。

使用切片方式制备像纸张、纤维等软材料截面样品，容易使样品变形错位；机械抛光处理的样品表面经常也会留下划痕、污染和表面应力，对样品的形貌观察和结构分析带来不利影响。日立新推出的IM4000离子研磨仪既可以对样品进行氩离子截面切割，可以进行氩离子平面研磨，是截面样品制备和平面样品无应力抛光的理想工具。

日立高新离子研磨装置IM4000具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器！

日立高新离子研磨装置IM4000的混合模式带有两种研磨配置：

断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面以下结构高分辨成像。

平面研磨：将样品表面均匀研磨5平方毫米，从不同角度有选择地研磨，以便突出样品的表面特性。

日立高新离子研磨装置IM4000的高通量能提高加工效率：

与之前的E-3500型相比，采用新型离子枪设计，减少了横截面研磨时间。（zui大加工率：硅元素为300微米/小时 — 加工时间减少了66%。

日立高新离子研磨装置IM4000的可拆卸样品台装置：为便于样品设置和定义研磨边缘，可将样品台装置拆卸。

日立高新离子研磨装置特点

混合模式：两种研磨配置

断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面高分辨观察

平面研磨：不同角度有选择地，大面积，均匀地研磨5 mm的平面，以突显样品的表面特性

高效：提高加工效率

与之前的E-3500型相比，采用新型离子枪设计，减少了横截面研磨时间

(zui大加工速度：硅材质为300 μm/h - 加工时间减少了66%)

可拆卸式样品台：

为便于样品设置和边缘研磨，样品台设计为可拆卸型

項目	内容
項目	平面研磨	截面研磨
使用气体	氩气
加速电压	0 ～ 6 kV
zui大加工速率（材料Si）	约20 m/h＊1 约2 m/h＊2	约300 m/h＊3
zui大样品尺寸	φ50×25（H）mm	20（W）×12（D）×7（H）mm
样品移动范围	X : 0 ～ +5 mm	X :±7 mm、Y : 0 ～ +3 mm
旋转速度	1 r/min、 25 r/min	-
摆动角度	±60°、±90°	±15°、±30°、±40°
倾斜角度	0～90°	-
氩气（Ar）流量控制方式	质量流量计（Mass Flow Controller）
真空系统	涡轮分子泵（33 L/s）＋机械泵（135 L/min(50 Hz）、162 L/min（60 Hz））
装置尺寸	616（W）×705（D）×312（H）mm
重量	主机48 kg＋机械泵28 kg
	选配
加工观测用显微镜	倍率：15× ～ 100× 双目型、三目型（可加装CCD）
真空转移盒单元	旋盖式（O形圈密封）密闭样品，样品仓内打开旋盖
冷却系统＊4	使用液氮间接冷却样品；冷却Mask温度：-30℃以下＊5 ；配有恢复到室温的控制器