MA12 Mask Aligner 半自动光刻机用于工业研究和低成本生产的手动光刻机MA12是专为对准和曝光300毫米以下方形衬底和晶圆而设计的，适合于工业研究和生产。凭借灵活处理和过程控制解决方案，本设备主要用于封装，包括3D圆晶级芯片尺寸封装, 以及开发和生产敏感元件，如MEMS。

• MA12 Mask Aligner

  
  

  用于工业研究和低成本生产的手动光刻机

  MA12是专为对准和曝光300毫米以下方形衬底和晶圆而设计的，适合于工业研究和生产。凭借灵活处理和过程控制解决方案，本设备主要用于封装，包括3D圆晶级芯片尺寸封装, 以及开发和生产敏感元件，如MEMS。

  亮点：

  ◆ 强大的工艺控制；

  ◆ 能够可靠地处理弯曲晶圆片和敏感材料；

  ◆ 的光均匀性。

  通过对准技术选项和可适应各种工艺环境的光学系统，MA12提供开发和使用光刻工艺所需要的灵活性。辅助操作系统和智能图形用户界面结合手动晶圆处理优点打造出强大的工艺控制和可靠性。

  MA12所采用的光刻技术能够将开发出的工艺轻松传输到 SUSS MicroTec 公司第二代 MA300 生产型光刻机上。