TIFAS-IR Nanotest TIFAS IR热成像法失效分析仪

Nanotest是柏林热管理材料表征和电子器件可靠性分析联合实验室的一员，该实验室与开姆尼茨工业大学、勃兰登堡工业大学和弗劳恩霍夫协会电子纳米系统研究所齐名，聚焦于热管理材料表征和电子器件可靠性分析领域，是欧洲相关领域主要的仪器供应商之一。
Nanotest TIFAS IR热成像法失效分析仪

Nanotest  TIFAS IR热成像法失效分析仪

     当热量从器件发热点（源）向环境中传递过程中，偶尔会遇到一些热的阻碍物，通常这些热阻碍物会非常严重的影响器件的可靠性。通过直接观察热的产生和其传递的路径是发现这些缺陷症状的有效方法。

        TIFAS IR是一个高度集成的桌面型红外热成像法失效分析仪，可应用于几乎所有材料的失效分析。通过观察电子器件、系统、复合物、多层聚合物或烧结零配件的全波段光谱来判断其综合结构，如杂质、缺陷以及形貌等。

技术参数：

测试时间：1-10 s

IR相机像素：382*288px (可提供更宽范围)

观测区域：95 mm x 123 mm(可提供更宽范围)

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