膜厚仪

产品简介】

薄膜厚度测量仪利用分光干涉原理精确测量光学或非光学薄膜厚度，测量分辨率达到纳米量级。该仪器具有测量迅速、操作简单、测量结果稳定（高再现性）、用户使用界面易于操作等特点，是目前市场上性价比优良的膜厚测量仪之一，可广泛应用于半导体、医疗和工业生产等领域的薄膜厚度测量。该膜厚仪使用紫外到近红外区域光源，测量范围1nm到500μm，可以测量的膜厚材料包括氧化物、氮化物和保护膜层等常用薄膜材料。

【测量原理】

白色照明光源垂直照射到待测薄膜，一部分光经过薄膜上表面的反射，返回到分光仪。另一部分透过薄膜上表面，经过薄膜与底层之间的界面反射，返回到分光仪（图1）。这两束光在分光仪的光电转换器表面重合，形成分光干涉条纹。根据分光干涉条纹的周期和薄膜厚度的关系，利用傅立叶变换方法，解析薄膜的厚度（图2和图3）。在薄膜厚度解析过程，利用不同类型材料的相应参数修订解析模型，从而进一步提高不同类型材料膜厚测量的准确性。

产品特点】

l UV/VIS/NIR高分辨率的配置

l 测量准确度达到1nm重复性为0.1nm

l 可以测量多层薄膜的厚度

l 测量范围*小至1nm*大至500µm

l 提供多种实验台及附件用于复杂外形材料的测量

l 对表面缺陷和粗糙度不敏感

l 庞大的材料数据库保证各种材料的精确测量

l 自动调节照明光源强度

l 高速、高精度测量，*高测量频率达到300Hz

l 重量轻、体积小，携带方便、安装简单，易于安装在生产线上

l 分光干涉测量模式，无任何移动部件，可长时间稳定工作

l 非接触光学无损测量，测量过程不会对样品造成破坏

l 提供*佳解析模型，消除不同材料对测量结果的影响

【使用特点】

快速：每次测量只需点击鼠标，测量结果立即呈现在屏幕上，不到一秒钟。应用于在线模式下，可在接受到采样信号后，立即测量

准确：准确度1nm重复性0.1nm，准确度优于1%，有多种材料组成的庞大的材料库，准确分析被测的薄膜。仪器为光学测量系统，无任何移动部件，不会由于多次测量产生回程等机械运动误差，可长时间稳定工作

无损：非接触光学无损测量，无须破坏样品或对样品做特殊处理

灵活：重量约为3kg，体积250*280*100mm，USB2.0/RS232/LAN多种接口连接方式，携带方便、安装简单，可任意放置于实验室、生产线甚至办公桌上使用。拥有多种特种配件，可适应如非平面测量、显微测量等特殊需求

方便：仪器集成自动调光模块，根据系统捕捉到的光谱数据自动调整光源的输出功率，避免光超过光谱仪的高敏感度线阵探测器能探测的极限，不会出现图像的饱和

易用：软件界面直观、中文显示、操作简单、用户体验出色。无需专业知识以及复杂的技术培训，预先设置好测试参数后，每次重复调用即可

性价比高：相对于传统膜厚测量设备，仪器拥有非常高的性价比