ZEISS的场发射扫描电镜全部采用新型镜筒(GEMINI)设计,具有优良的高、低加速电压性能
ZEISS的场发射扫描电镜全部采用新型镜筒(GEMINI)设计,具有优良的高、低加速电压性能;InLens设计是目前真正的内置镜筒电子束光路上二次电子探测器,其具有灵敏度和高的接收效率,而且只接收来自样品表面的二次电子,因此具有分辨率和图像质量,二次电子探测器和背散射电子探测器均内置于镜筒电子束光路上,试样的工作距离不受背散射探测器的影响,可以非常接近极靴,这样可以同时获得二次电子像分辨率和背散射电子像分辨率,且接收的背散射电子的能量可以控制。创造性的采用电磁、静电复合式物镜,杂散磁场小,可对铁磁体样品进行高分辨率成像。 SIGMA是一台高性能、功能强大的高分辨应用型扫描电子显微镜。系统采用多接口的大样品室和艺术级的物镜设计,提供高真空成像功能,可对各种材料表面作分析。并且具有业界的X射线分析条件,样品台为五轴全自动控制。标准的高效率无油涡轮分子泵满足快速的样品更换和无污染成像分析。 主要参数: 1. 工作条件 1.1. 电源电压:220V±10V, 单相 50Hz 1.2. 工作温度: 1.3. 接地:独立的接地线 1.4. 仪器运行的持久性:长时间连续工作 1.5. 磁场:≤ 3 mGauss 1.6. 湿度:≤ 60% RH 2. 性能 2.1. 分辨本领 二次电子像分辨率: 1.3nm (20 kV) 2.3. 探针电流: 4 pA~20 nA 稳定性: 优于 0.2%/h 2.4. 放大倍率: 放大倍数调整:粗、细调模式连续可调 预设定:可从用户菜单中选择设定值 自动补偿:随着工作距离或加速电压的变化,自动精确校正放大倍数。 校准:对于图像输出装置的改变,自动精确校正放大倍数。 3. 电子光学系统 3.1. 电子发射源: 3.2. 透镜系统: 3.3. 聚焦: 控制:具有灵敏度与放大倍数相关的粗调和细调。 自动聚焦控制:粗调、细调。 聚焦补偿:在整个加速电压变化范围内,自动补偿。 动态聚焦:对倾斜样品进行聚焦矫正。 旋转补偿:自动矫正由于工作距离的变化引起的图像旋转。 倾斜补偿:自动矫正由于样品倾斜引起的放大倍数变化。 3.4. 消像散器 八极电磁式系统 3.5. 光栏 数量:不少于 5个 调整:电磁选择和软件调整 3.6. 扫描 扫描速率:0.1秒/帧~30分/帧(或更宽) 扫描方式:全帧、选区、定点、线扫描、扫描旋转、倾斜补偿 3.7. 电子束位移 4. 样品室 4.1. 样品室尺寸: 4.2. 样品尺寸: 4.3. 样品置换时间(抽真空时间):不大于 5分钟 4.4. 附件接口: 在样品室上提供不少于六个附件接口,可同时接X射线能谱、背散射电子探测器等。 4.5. 样品台 类型:5轴马达驱动 装配方式:抽屉式拉门。 控制:双操纵杆控制盒 移动范围: X: R:360°连续可调 5. 探测器 5.1. 探测器类型 镜筒内(In-lens)二次电子探测器 样品室二次电子探测器 背散射电子探测器 CCD 摄像机 5.2. 控制 自动对比度/亮度 6. 信号选择 二次电子信号、背散射电子信号等,任何二个通道信号都可进行混合,以获取更佳的图像效果。 7. 图像显示 7.1. 存储分辨率:不小于 3k x 2k像素 7.2. 显示分辨率:1024 x 768像素 7.3. 降噪处理:像素平均、连续平均、帧和行叠加 7.4. 具有数据区、状态显示、图像注释和测量功能 7.5. 可在Windows支持的外部设备上存储及打印图像 8. 显示器:19" 液晶显示器 9. 计算机环境(配置) 9.1. 处理器:CPU:Intel P4 3.2GHz。内存:512MB 9.2. 操作系统:Microsoft Windows XP 9.3. 外界接口:串行、并行、SCSI、USB 2.0接口、网络。 9.4. 磁盘驱动器: 9.5. 电镜控制操作软件。 10. 真空系统: 全自动控制 样品室极限真空度:优于2.0×10-4Pa
调整范围:100 V~30 kV
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