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薄膜厚度测量系统TF200

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产品简介:TF200薄膜厚度测量系统利用薄膜干涉光学原理,对薄膜进行厚度测量及分析。用从深紫外到近红外可选配的宽光谱光源照射薄膜表面,探头同位接收反射光线。TF200根据反射回来的干涉光,用反复校准的算法快速反演计算出薄膜的厚度。测量范围1nm-3mm,可同时完成多层膜厚的测试。对于100nm以上的薄膜,还可以测量nk值。

产品型号

TF200-VIS

TF200-EXR

TF200-DUV

TF200-XNIR

主要特点

快速、准确、无损、灵活、易用、性价比高

应用领域

半导体(SiO2/SiNx、光刻胶、MEMSSOI等)

LCD/TFT/PDP(液晶盒厚、聚亚酰胺ITO)

LED (SiO2、光刻胶ITO等)

触摸屏(ITO AR Coating反射/穿透率测试等)

汽车(防雾层、Hard Coating DLC等)

医学(聚对二甲苯涂层球囊/壁厚药膜等)

 

波长范围

380-1050nm

380-1700nm

190-1100nm

900-1700nm

厚度范围

50nm-40um

50nm-300um

1nm-30um

10um-3mm

准确度(取决于材料0.4%2nm之间取较大者)

2nm

2nm

1nm

10nm

精度

0.2nm

0.2nm

0.2nm

3nm

入射角

90°

90°

90°

90°

样品材料

透明或半透明

透明或半透明

透明或半透明

透明或半透明

测量模式

反射/透射

反射/透射

反射/透射

反射/透射

光斑尺寸(可选微光斑附件。

2mm

2mm

2mm

2mm

是否能在线

扫描选择

XY可选

XY可选

XY可选

XY可选


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