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平面刻线衍射光栅

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平面刻线衍射光栅制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择,通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整,可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精路线折回,并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精控制。

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平面刻线衍射光栅(50x50x9.5mm)


制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择,通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整,可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精路线折回,并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精控制。


75l/mm @10.6μm


100l/mm @10.6μm


150l/mm @10.6μm


300l/mm @300nm


300l/mm @500nm


300l/mm @1000nm


300l/mm @3.5μm


450l/mm @3.1μm


600l/mm @250nm


600l/mm @300nm


600l/mm @400nm


600l/mm @500nm


600l/mm @750nm


600l/mm @1000nm


600l/mm @1250nm


600l/mm @1600nm


1200l/mm @250nm


1200l/mm @300nm


1200l/mm @400nm


1200l/mm @500nm


1200l/mm @750nm


1200l/mm @1000nm


1800l/mm @500nm


特征

材料:

浮法玻璃

表面光洁度:

60-400

尺寸误差:

±0.5 mm

厚度公差:

±0.5mm

效率:

60%~80% @闪耀波长

有效孔径:

90%

损伤阈值:

350mJ/cm2@200ns脉冲激光

40W/cm2(CW)连续激光



产品编号

产品名称

尺寸

刻线数

闪耀波长

闪耀角

378521

刻线式光栅 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

300Lines/mm

300nm

2°34'

378522

刻线式光栅 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

300Lines/mm

500nm

4°18

378523

刻线式光栅 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

300Lines/mm

1000nm

8°36'

378531

刻线式光栅 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

600Lines/mm

300nm

5°9'

378532

刻线式光栅 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

600Lines/mm

400nm

6°53'

378543

刻线式光栅 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

600Lines/mm

500nm

8°37'

378544

刻线式光栅 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

600Lines/mm

750nm

13°0'

378545

刻线式光栅 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

600Lines/mm

1000nm

17°27'

378546

刻线式光栅 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

600Lines/mm

1250nm

22°1'

378547

刻线式光栅 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

600Lines/mm

1600nm

28°41'

378554

刻线式光栅 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1200Lines/mm

250nm

8°37

378555

刻线式光栅 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1200Lines/mm

300nm

10°22'

378556

刻线式光栅 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1200Lines/mm

400nm

13°53'

378565

刻线式光栅 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1200Lines/mm

500nm

17°27'

378566

刻线式光栅 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1200Lines/mm

750nm

26°44'

378567

刻线式光栅 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1200Lines/mm

1000nm

36°52'

378568

刻线式光栅 50x50x9.5mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1800Lines/mm

500nm

26°44'

平面刻线衍射光栅(25x25x6mm)


制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择,通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整,可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精路线折回,并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精控制。


75l/mm @10.6μm


100l/mm @10.6μm


150l/mm @10.6μm


300l/mm @300nm


300l/mm @500nm


300l/mm @1000nm


300l/mm @3.5μm


450l/mm @3.1μm


600l/mm @250nm


600l/mm @300nm


600l/mm @400nm


600l/mm @500nm


600l/mm @750nm


600l/mm @1000nm


600l/mm @1250nm


600l/mm @1600nm


1200l/mm @250nm


1200l/mm @300nm


1200l/mm @400nm


1200l/mm @500nm


1200l/mm @750nm


1200l/mm @1000nm


1800l/mm @500nm


特征

材料:

浮法玻璃

表面光洁度:

60-400

尺寸误差:

±0.5 mm

厚度公差:

±0.5mm

效率:

60%~80% @闪耀波长

有效孔径:

90%

损伤阈值:

350mJ/cm2@200ns脉冲激光

40W/cm2(CW)连续激光


产品编号

产品名称

尺寸

刻线数

闪耀波长

闪耀角

378518

刻线式光栅 25x25x6mm 300Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

300Lines/mm

300nm

2°34'

378519

刻线式光栅 25x25x6mm 300Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

300Lines/mm

500nm

4°18'

378520

刻线式光栅 25x25x6mm 300Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

300Lines/mm

1000nm

8°36'

378527

刻线式光栅 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

250nm

4°18

378528

刻线式光栅 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

300nm

5°9'

378529

刻线式光栅 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

400nm

6°53'

378538

刻线式光栅 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

500nm

8°37'

378539

刻线式光栅 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

750nm

13°0'

378540

刻线式光栅 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

1000nm

17°27'

378541

刻线式光栅 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

1250nm

22°1'

378542

刻线式光栅 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

1600nm

28°41'

378551

刻线式光栅 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

250nm

8°37'

378552

刻线式光栅 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

300nm

10°22'

378553

刻线式光栅 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

400nm

13°53'

378561

刻线式光栅 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

500nm

17°27'

378562

刻线式光栅 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

750nm

26°44'

378563

刻线式光栅 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

1000nm

36°52'

378564

刻线式光栅 25x25x6mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1800Lines/mm

500nm

26°44'

平面刻线衍射光栅(12.7x12.7x6mm)


制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择,通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整,可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精路线折回,并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精控制。


75l/mm @10.6μm


100l/mm @10.6μm


150l/mm @10.6μm


300l/mm @300nm


300l/mm @500nm


300l/mm @1000nm


300l/mm @3.5μm


450l/mm @3.1μm


600l/mm @250nm


600l/mm @300nm


600l/mm @400nm


600l/mm @500nm


600l/mm @750nm


600l/mm @1000nm


600l/mm @1250nm


600l/mm @1600nm


1200l/mm @250nm


1200l/mm @300nm


1200l/mm @400nm


1200l/mm @500nm


1200l/mm @750nm


1200l/mm @1000nm


1800l/mm @500nm


特征

材料:

浮法玻璃

表面光洁度:

60-400

尺寸误差:

±0.5 mm

厚度公差:

±0.5mm

效率:

60%~80% @闪耀波长

有效孔径:

90%

损伤阈值:

350mJ/cm2@200ns脉冲激光

40W/cm2(CW)连续激光


产品编号

产品名称

尺寸

刻线数

闪耀波长

闪耀角

378515

刻线式光栅 12.7x12.7x6mm 300Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

300Lines/mm

300nm

2°34'

378516

刻线式光栅 12.7x12.7x6mm 300Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

300Lines/mm

500nm

4°18'

378517

刻线式光栅 12.7x12.7x6mm 300Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

300Lines/mm

1000nm

8°36'

378524

刻线式光栅 12.7x12.7x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

600Lines/mm

250nm

4°18'

378525

刻线式光栅 12.7x12.7x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

600Lines/mm

300nm

5°9'

378526

刻线式光栅 12.7x12.7x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

600Lines/mm

400nm

6°53'

378533

刻线式光栅 12.7x12.7x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

600Lines/mm

500nm

8°37'

378534

刻线式光栅 12.7x12.7x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

600Lines/mm

750nm

13°0'

378535

刻线式光栅 12.7x12.7x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

600Lines/mm

1000nm

17°27'

378536

刻线式光栅 12.7x12.7x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

600Lines/mm

1250nm

22°1'

378537

刻线式光栅 12.7x12.7x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

600Lines/mm

1600nm

28°41'

378548

刻线式光栅 12.7x12.7x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

1200Lines/mm

250nm

8°37'

378549

刻线式光栅 12.7x12.7x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

1200Lines/mm

300nm

10°22'

378550

刻线式光栅 12.7x12.7x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

1200Lines/mm

400nm

13°53'

378557

刻线式光栅 12.7x12.7x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

1200Lines/mm

500nm

17°27'

378558

刻线式光栅 12.7x12.7x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

1200Lines/mm

750nm

26°44'

378559

刻线式光栅 12.7x12.7x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

1200Lines/mm

1000nm

36°52'

378560

刻线式光栅 12.7x12.7x6mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

1800Lines/mm

500nm

26°44'

制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择,通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整,可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精路线折回,并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精控制。制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择,通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整,可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精路线折回,并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精控制。制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择,通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整,可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精路线折回,并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精控制。制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择,通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整,可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精路线折回,并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精控制。制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择,通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整,可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精路线折回,并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精控制。制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择,通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整,可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精路线折回,并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精控制。制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择,通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整,可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精路线折回,并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精控制。制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择,通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整,可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精路线折回,并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精控制。制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择,通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整,可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精路线折回,并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精控制。

江阴韵翔光电技术有限公司

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