KRI 考夫曼离子源 KDC 75 伯东公司代理

上海伯东代理美国 进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 75:紧凑栅极离子源,离子束直径 14 cm ,可安装在 8“CF法兰. 适用于中小型腔内, 考夫曼离子源 KDC 75 包含2个阴极灯丝, 其中一个作为备用,KDC 75 提供紧密聚焦的电子束特别适合溅射镀膜. 标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 250 mA.

型号

KDC 75 / KDC 75L(低电流输出)

供电

DC magnetic confinement

- 阴极灯丝

2

- 阳极电压

0-100V DC

电子束

OptiBeam™

- 栅极

专用, 自对准

-栅极直径

7.5 cm

中和器

灯丝

电源控制

KSC 1212 或 KSC 1202

配置

-

- 阴极中和器

Filament, Sidewinder Filament  或LFN 2000

- 安装

移动或快速法兰

- 高度

7.9'

- 直径

5.5'

- 离子束

聚焦
平行
散设

-加工材料

金属
电介质
半导体

-工艺气体

惰性
活性
混合

-安装距离

6-24”

- 自动控制

控制4种气体

* 可选: 一个阴极灯丝; 可调角度的支架

KRI 考夫曼离子源 KDC 75 应用领域
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE

客户案例: 超高真空离子刻蚀机 IBE, 真空度 5E-10 torr, 系统配置
美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 75

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