wi97944 单靶等离子溅射仪

产品名称： 单靶等离子溅射仪
产品货号： wi97944
产 地： 国产

单靶等离子溅射仪是一种已经通过CE认证的紧凑型等离子溅射仪。用于金、铂、铟、银等多种金属的溅射镀膜。样品直径可达50mm,镀膜厚度可达300埃。特别适用于SEM样品的镀膜。本品包括真空泵和预置一个金靶。 主要特点： 单靶等离子溅射仪主要特点如下： 1. 配置有样品溅射室真空表和溅射电流表，用以指示、监控仪器状态； 2. 溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体，获得*镀膜效果； 3. 特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证*使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象； 4. 陶瓷密封高压头比通常采用橡胶密封的更经久耐用； 5. 根据电场中气体电离特性，采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均匀纯净。 技术参数： 单靶等离子溅射仪主要技术参数： 1、输入电源：220V，总功率小于2000W(包括真空泵)； 2、样品室尺寸：直径160mm,高度120mm; 3、样品台：直径50mm,可以同时给8个SEM样品镀膜，样品台高度可调。zui大均匀镀膜区域为直径45mm; 4、气氛控制：针阀控制气体流量，已取得更好的镀层效果; 5、外形尺寸：长400mmx宽300mmx高400mm; 6、净重：约30公斤； 7、保质期和证书：1年保质期及CE认证证书。 靶材相关： 金 – 常规SEM应用时使用zui普遍的靶材；溅射速度快且导电效果。 银 – 高导电性且具有高的二次电子发射率。溅射上去的银易于去除，可使样品成像后还原到其原来状态。 铂 – 在机械泵抽真空的溅射镀膜系统中它的颗粒尺寸zui小，且具有优良的二次电子发射能力。 钯 – 用于x射线能谱分析非常理想，因其谱线分布冲突相对较低。 金/钯合金（80:20%） - 通过限制沉积期间金颗粒的团聚，钯可提高zui终分辨率。 标准配件：金靶1块 可选配件：金、铟、银、铂等各种靶材