CVD金刚石的一个重要性质是它具有*的热导率。在室温条件下, 金刚石的热导率是铜的五倍。同时,它本身又是*的绝缘材料。因此可以应用金刚石膜制作X射线光源阳极透射靶材, X射线窗口和X射线荧光屏(掺N/B)等。CVD 金刚石光学性质的应用。金刚石在从紫外到远红外的很长波长范围内有很高的光谱通过性能。加上金刚的机械、热学性质,使金刚石薄膜成为可在恶劣环境中使用的*的光学窗口材料。 基本参数: 掺氮适用于高通量光束(1013-1015 photons/s) 掺硼适用于低通量光束,1010-1012 photons/s 应用案例: X射线荧光屏 X射线窗口 X射线源透射靶类型 单晶 / 多晶金刚石 级别 力学级、热学级、光学级、电子学级、纳米晶 典型尺寸 多晶:可在φ120mm的晶圆上切割任意尺寸;单晶:大尺寸为7mm*7mm 标准厚度 0.01-2mm 表面处理 Ra<10nm (多晶) Ra<3nm (单晶) 掺杂
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